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分辨率增强技术在ArF光刻中的应用
分辨率增强技术是光学光刻中用来实现高分辩光刻成像质量的重要手段，主要包括离轴照明、相移掩模、邻近效应校正、偏振照明四种技术。这四种技术从不同的方面影响传递信息的载体一光来达到提高光刻分辨率的目的。但各种技术在综合应用时，很有可能相互冲突反而影响分辨率的提高。因此研究几种分辨率增强技术的结合方式，确定适当的掩模．照明设计方案是十分必要的。
论文从信息光学的角度分析光刻曝光系统的成像过程，深入讨论了离轴照明、相移掩模和邻近效应校正对成像系统交叉传递函数和像场空间频率分布的影响，研究这几种技术的物理光学本质，从理论上揭示了分辨率增强技术提高分辨率的机理。并根据Hopkins部分相干理论建立了光学成像模型，计算出物平面的成像图形，获得了与商业光刻软件Prolith一致的成像结果。最后在频谱分析的基础上提出了一种能够应用于65nm干式光刻，45rim浸没式光刻的照明．掩模协同设计方案，并从系统传递函数和光刻工艺窗口两方面对协同设计方案的成像性能进行评价。
通过利用光刻仿真软件Prolith对协同设计方案进行验证，结果表明采用先设计优化照明，后掩模设计优化的协同设计方案能够达到很好的成像效果。对65nm密集图形，离轴照明与相移掩模结合后工艺窗口最高可达到：EL;5％/DOF：0.51μm。对45nm密集图形，Annular、Quasar、Dipole照明与衰减相移掩模结合后工艺窗口分别可以达到：EL：3％/DOF：0.16/am、EL：5％/DOF：0.14/am、EL：5％/DOF：0.3μm通过对RET频谱分析，从频谱的角度出发设计合理的照明一掩模协同设计方案是一种合理的设计途径，对提高干式光刻和浸没式光刻的分辨率有重要意义。离轴照明通过影响交叉传递函数从而改善系统对不同级衍射光的衰减特性，提高进入光瞳的高频衍射光的透过率，使成像对比度增强，从而达到提高分辨率的目的。相移掩模和邻近效应校正技术则是直接控制掩模频谱，加强代表图形细节信息的高频分量，抑制低频分量，使成像图形更接近实物。两者结合可以灵活地控制到达成像面的频谱分布，提高像质和光刻工艺窗口。
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万方数据电子出版社高效率X射线光刻在单级光栅研制中的应用--《微纳电子技术》2015年04期
高效率X射线光刻在单级光栅研制中的应用
【摘要】：为了满足单级衍射光栅的应用需求,在器件研制中对X射线光刻的关键技术进行优化,克服了曝光中图形畸变的问题,并利用同步辐射光源对单级衍射光栅进行了高效率的批量复制。通过对X射线光谱成分进行模拟,在X射线束线中插入铬反射镜和氮化硅滤片,得到了能量范围为0.5~2 keV的大面积均匀光斑;根据具体情况对掩模图形进行+5~+35 nm的校正,克服了X射线曝光图形扩展的问题;通过控制掩模与基片软接触产生的莫尔条纹,使曝光间隙降到3μm以下,保证了稳定的曝光结果与高分辨率;所制备的多种单级衍射光栅图形结构复杂,具有纳米尺度特征线宽,剖面陡直,满足单级衍射光栅设计对纳米加工技术的苛刻要求。
【作者单位】：
【关键词】：
【基金】：
【分类号】：TN305.7【正文快照】：
纳米加工与新器件集成技术实验室,北京.中国工程物理研究院激光聚变研究中心高温高密度等离子体物理国家重点实验室,四川绵阳引言X射线衍射光栅在极紫外先进光刻[1]、空间辐射环境探测[2]、激光惯性约束核聚变[3]和软X射线谱学[4]等领域有着广泛的应用。由于X
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京公网安备75号激励激光器在微光刻中的应用——一种有潜力的新用途变成现实--《微细加工技术》1989年01期
激励激光器在微光刻中的应用——一种有潜力的新用途变成现实
【摘要】：正 1982年,IBM公司的研究者首次报道将激励激光器用于半导体光刻。从此,激励激光器进入了用于接触曝光和掩模制造等的商品系统中。然而,最终的目标是研制激励激光器圆片步进光刻机,因为步进光刻机是任何半导体厂的骨干设备。1986年,AT＆T Bell实验室报道了激励激光器步进光刻机,打那以后,许多不同的工艺实验室和步进光刻机生产厂公开了他们关于类似计划方面的进展。若干光刻设备制造厂开始接受激励步进光刻机的定单,但是激励激光器在光刻中的前途并不见得比以往更为光明。
【关键词】：
【正文快照】：
1982年,IBM公司的研究者首次报道将激励激光器用干半导体光刻‘。从此,激励激光器进入了用于接触曝光和掩模制造等的商品系统中。然而,最终的目标是研制激励激光器圆片步进光刻机,因为步进光刻机是任何半导体厂的骨干设备。1986年,ATT Bell实验室报道了激励激光器步进光刻机
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紫外线(UV)固化技术在数字成像材料中的应用(四)UV固化技术在立体光刻中的应用
近年米,数字成像技术不断提高和应用范围的迅速推广,也推动了UV固化技术在这一领域的融合和应用,取得了极大的成效,由于UV固化材料具有快速固化、高效、低污染、节能、优质等特点,很快发展成为一种新型的数字成像材料,目前已实现产业化的主要有UV喷墨打印、计算机直接制版CTP、印刷电路版数字化制作、立体光刻等四种技术,作者拟分为四个专题予以阐述,本文主要讨论其第四个专题:UV固化技术在立体光刻中的应用.
JIN Yang-zhi
作者单位：
北京化工大学材料科学与工程学院,北京,100029
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