高纯度制氮机氮是有毒气体吗?

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指实验室气体工程,即从气瓶至仪器终端之间连接管线,JHP一般有气体切换装置-减压装置-阀门-管线-过滤器-报警器-终端箱-调节阀等部分组成。目前主流气路编排主要为实验室集中供气系统
实验室气路:指实验室气体工程,即从气瓶至仪器终端之间连接管线,JHP一般有气体切换装置-减压装置-阀门-管线-过滤器-报警器-终端箱-调节阀等部分组成。
目前主流气路编排主要为实验室集中供气系统
实验室气体的应用
气路系统主要应用于处理高纯度气体,或有毒气体和腐蚀性气体的控制设备,是真正的针对实验室的气路系统。 主要应用在:实验室、电子微电子、石化、太阳能、分析仪器、电厂核电、生物制药、质量监督局、学校科研、原子吸收光谱法、废气分析、食品包装、近海行业、医用/工业激光行业等高科技领域。
实验室集中供气系统整体要求
实验室气体采用集中供气方式,由实验室外专用供气区域用管路引进。除了洁净空气由空气压缩系统直接产生外,其余气体都是采用高压气瓶供气。
每种气体都要有主供和备供气瓶,并安装自动切换面板进行供气控制,保证不间断供气。另外主要的控制阀门和减压阀门都应安装在实验室外。
实验室气体由不锈钢管(BA级)路输送,一般1.5米内并必须有支架固定在墙面。在实验室内所有管路安装在天花板下方,沿墙进行明设。所有管路标明连接的气体。气体管路每隔1.5米的距离,都要有明确标示,同时指示气体的流向。
所有减压器都需要连接一条通出气体存藏区的排气管路。易燃、氧化气体排气管路不能并在一起。
所有设计和施工必须符合相关的规范和要求,如:《科学实验室建筑设计规范》–JGJ 91-93;《氢气使用安全技术规程》-GB ;《现场设备、工业管道焊接工程施工及验收规范》-GB。
气体管路要求
所有气体管路都由高质量的、完全退火型、无缝连接的不锈钢管(BA级)组成。铜管只使用在气体管路的末端,对气体纯度要求不是太严格的地方。(比如通风柜)。
气体管道不得和电缆、导电线路同架铺设。
易燃气体,如乙炔需要和其他气体分开单独引入。氢气管道若与其他可燃气体管道平行敷设时,其间距不应小于0.5M;交叉敷设时间距不应小于0.25M。分层敷设时氢气管道应位于上方。
压缩空气在管路上有过滤杂质和水分的净化装置,此净化装置需要并联一路,用单独的阀门隔离,以方便对过滤装置进行维修。
高纯气体管路的连接为无缝焊接。连接到阀门或调节装置时才可以使用接头配件。
每个实验室都要有单独的控制阀、减压阀和压力表。
引到工作台的气体管路要安装单独的控制阀。工作台上要均匀排放各种气体的控制阀门。在氦气管路前面建议安装气体净化装置。
每隔1.5米左右,气体管路就需要有支架。另外根据气体管路弯曲的半径,设置合适的支架位置。所有弯曲处都要有支撑。气体管路所有的支架都要进行镀锌防腐处理。
不锈钢管件在现场安装时方可启封,启封后均要适用5N的高纯气体吹扫后才能接入系统。整个系统安装完成后,还要再使用5N的高纯氮气进行大流量吹扫,以确保整个系统的洁净度。
供气系统安装完成后,根据要求进行相关的强度测试、密封测试和稳定性测试。
实验室“气体工程”是一项较为复杂,严谨的系统工程,需要专业的工程公司参与整体设计 规划。上一篇:
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高纯氨主要应用于新型光电子材料领域,是MOCVD技术制备GAN的重要基础材料。由GAN生产高灵敏度蓝光发光二级管和蓝光激光器,以及其它相关电子器件,是国内外都在抢占的产业。高纯氨还是制备三氟化氮、氮化硅、的基础材料,是生产超高级氮的原料气。此外,液氨广泛地应用于半导体工业、冶金工业,以及需要保护气氛的其他工业和科学研究中。
&商品详细介绍
&A colorless,toxic,flammable,corrosive,liquefied gas.(一种无色,有毒,可燃,具腐蚀性的可液化气体)
&Formula(分子式):
&Molecular weight(分子量):
17.03g/mol
&Boiling point(沸点):
&Melting point(熔点):
&Vapor pressure(蒸汽压):
888KPa(21.1℃)
129Psia(70&F)
&Specific volume(比容):
1.41m3/kg(21.1℃,101.325KPa)&
22.6ft3/lb(70&F,14.696psia)
&Lower Flammable Limit(最低可燃性含量):
&Upper Flammable Limit(最高可燃性含量):
&Threshold Limit Value(人体的最高容许浓度):
&DOT Classification(DOT类别):
2.2(Flammable Gas)(可燃性气体)
&DOT Lable(DOT标签):
FLAMMABLE GAS(可燃性气体)
&电子工业用气体& 氨(GB/T)
&氨(NH3)纯度(体积分数)/10-2&&&&&&&& &
&氧(O2)含量(体积分数)/10-6 &&&&&&&&&<
&氮(N2)含量(体积分数)/10-6&&&&&&&&&&&&& <
&氢(H2)含量(体积分数)/10-6&&&&&&&&& <
&一氧化碳(CO)含量(体积分数)/10-6&&&&& <
&二氧化碳(CO)含量(体积分数)/10-6&&&&& <
&烃(C1~C3)含量(体积分数)/10-6&&&&&&&& <
&水分(H2O)含量(体积分数)/10-6&&&&&&&&& <
&总杂质含量(体积分数)/10-6&&&&&&&&&&&&&&&& &
40L 44L 47L
CGA660 DISS720
DISS720(手动)DISS720(气动)
DISS720(手动)
&应用:晶圆清洗、在CVD过程中生成氮化硅或氮化镓等薄膜
地址:中国 江苏 苏州市相城区黄埭镇潘阳工业园安民路6号 销售热线:400-&& 电话:5&&& 传真:9 &中企动力提供技术支持
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