乳化剂佐氧沙星有口'服吗

武汉银河化工有限公司
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[促销] 氧氟沙星高剪切乳化机(CRS2000)
供应商参考报价:面议
&&供应商信息
所在城市:
上海市 上海市奉贤去
详细地址:
上海市奉贤区邬桥镇汇安路319号
乳化机类型:
均质乳化机
高剪切乳化机
工作方式:
适用场所:
工业生产用
适用物料:
料筒形状:
应用领域:
电机功率:
2.2-160 Kw
外形尺寸(长*宽*高):
350*450*750 mm
整机重量:
生产能力:
1000 升/小时
主轴转速:
14000 r/min
装置方式:
适用温度:
& & & & & & &氧氟沙星高剪切乳化机
氧氟沙星,主要用于上述革兰阴性菌所致的呼吸道、咽喉、扁桃体、泌尿道(包括前列腺)、皮肤及软组织、胆囊及胆管、中耳、鼻窦、泪囊、肠道等部位的急、慢性感染。
【氧氟沙星高剪切乳化机简介】
CIK三级管线式超高速剪切机机采用的德国先进的三级定转子结构,由上至下分别为粗齿、中齿、细齿(或者超细齿),也就是我们通常所说的2P、2G、4M、6F、8SF,五组定转子可根据具体要求进行选配,而对于生气柴油乳化,我们一般选配2G、4M、8SF三组定转子作为一个组合,再配上CIK分散乳化机超高的线速度44m/s(高剪切分散乳化机影响物料分散乳化效果的是设备的剪切速率,而设备的剪切速率又是由线速度与定转子间隙决定的,当定转子间隙一定的时候,线速度越大,剪切速率越高,剪切效果就越好。设备的线速度又是由设备转速和定转子直径来决定的,当定转子直径一定的时候,设备转速越高,线速度就越高,剪切效果就越好),CIK三级剪切分散机转速范围在0-14000rpm之间,可根据客户具体要求进行调节。CIK为保证设备从中试型到生产型能做到线性放大,所以同一系列的设备线速度都是一致的(44m/s)。
氧氟沙星高剪切乳化机采用德国先进的定转子技术以及皮带传动技术,将德国先进的胶体磨技术与德国先进的超高速分散机技术合二为一,设备即兼顾了高速研磨剪切,又具体了超高速分散、乳化、均质等功能。转速最高可达14000rpm,线速度最高可以44m/s。设备拥有很强的研磨分散能力。
NK2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
CIK&2000系列在线设备的其他优势:&
&&低噪声标准
&&提高泵送、混合和分散效果
&&通过皮带驱动,调速简便。
&&立式设计,可自排空物料
&&由于集装式设计,采用抗腐蚀材料的优质密封件,保养维修简单。
&&高品质表面光洁度符合FDA&/&EHEDG的卫生要求
&&所有设备都有CIP/SIP能力
&&占地面积小
&&可以根据客户要求提供防爆性能(ATEX)
&&可以根据客户要求定制高品质处理的表面和特殊材料
标准流量(H2O)
标准线速度
进出口尺寸
CRS&2000/4
CRS&2000/5
1,000-1.5000
DN40&/DN&32
CRS&2000/10
DN50&/&DN50
CRS&2000/20
DN80&/DN&65
CRS&2000/30
DN150&/DN&125
CRS&2000/50
DN200&/DN&150
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壳聚糖—左氧氟沙星长效缓释微球制备及性能的研究.pdf103页
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Fabricationand
levofloxacin..10aded
Properties
sustained-。releasechitosan
microspheres
DissertationSubmitted
Committeeof
TianjPolytechnic
University
Candidacy Degree
Biomedical
Engineering
Supervisor:ProfessorHuaandGuan
Polytechnic
University,Tiin,P
December,2009
独创性:声明
本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作和取得的
研究成果,除了文中特别加以标注和致谢之处外,论文中不包含其他人已经发表
或撰写过的研究成果,也不包含为获得丢洼王些太堂或其他教育机构的学位
或证书而使用过的材料。与我~f司工作的同志对本研究所做的任何贡献均己在论
文中作了明确的说明并表示了谢意。
学位论文作者签名: 渺矿
签字日期:劲f口年/月砷日
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左氧氟沙星人工抗原间接elisa检测方法的建立
establishing the method for detecting.
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establishing the method for detecting levofloxacin artificial allergens by indirect e
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