EUV光刻胶胶能挡住质子轰击吗

近年来大规模和超大规模集成電路发展迅速,其中半导体领域相关的研发及生产技术也在极速发展在半导体领域中,大规模集成电路制造过程离不开EUV光刻胶和刻蚀技術是精细线路图形加工中最重要的工艺,其中最重要的原材料就是辐照光敏材料—EUV光刻胶胶也称为光致抗蚀剂。


EUV光刻胶胶分为正胶和反胶其区分依据就是显影及化学反应机理不同,光照后形成不可溶物质的是负胶反之,经过光照后形成可溶物质的即为正胶EUV光刻胶膠的具有以下几种重要参数特性:

① 分辨率:区别硅片图形特征的能力,分辨率越高制作出来的半导体的尺寸精度越高。

② 敏感度:EUV光刻胶胶产生一个良好的图形需要一定波长的能量光EUV光刻胶胶的敏感性对于波长更短的紫外光尤为重要。

③ 粘滞性/黏度:粘滞性/黏度是衡量EUV光刻胶胶流动特性参数高的粘滞性会产生厚的EUV光刻胶胶;越小的粘滞性,制作出来的EUV光刻胶胶厚度越均匀简单来说就是粘滞性越小,流动性越好制作出来的EUV光刻胶胶越好。

④ 粘附性:粘附性表征EUV光刻胶胶粘着于衬底的附着力粘附性不足会导致硅片表面图形变形,茬后续的工艺中粘附性尤为重要。

⑤ 抗蚀性:在EUV光刻胶胶后续的刻蚀工序中需要保护好衬底表面,需要EUV光刻胶胶有一定的抗蚀性耐熱稳定性和抗离子轰击能力。


在EUV光刻胶胶生产过程中一个合适的生产车间尤其重要,需要具备以下几个特点:

① 车间的工作人员感到室溫舒适的范围车间的湿度如果过高会使人觉得气闷,过低会使呼吸道不适从而影响工作。

② 静电荷的控制:当湿度小于30%RH时静电会在絕缘体中存在很长一段时间,半导体生产车间一般会使用额外的湿度控制及防静电装置以限制静电荷累积

③ 车间的湿度如果控制不好,嫆易造成车间里的金属腐蚀加快设备的老化。

④ 粘附性受到车间的湿度影响在高湿度的生产设备中,浓缩水型的毛细管在颗粒和表面の间形成了连接键增加胶粒与硅片的粘附性,当湿度控制在70%RH这种效果尤为明显。

⑤ 相对湿度和温度对于EUV光刻胶胶的稳定性有极大的影響EUV光刻胶胶对于相对湿度极为敏感,对于后续生产的精确尺寸控制有很大的作用

由此可见,相对湿度和温度的控制非常重要温湿度傳感器HTU21D常用于生产车间的温湿度控制,对于生产制造环境苛刻的产品制造极为重要


完全可互换无需重新校正

适合无铅回流焊等自动化装配方式

单独标识,符合严格的追溯要求

温度测量范围: -40℃—125℃

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