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2016.1高三东城试题(终稿)
北京市东城区学年度第一学期末教学统一检测
第一部分 （选择题
本部分共16小题，每小题3分，共48分。在每小题列出的四个选项中，
1．下列我国古代优秀艺术作品中，所用材料不属于无机非金属材料的是
2．化学与生产、生活、环境等社会实际密切相关。下列叙述正确的是
A ．生吃新鲜蔬菜要比熟吃时维生素C 的损失大
B ．水体中植物营养物质过多积累会引起水体富营养化
C ．加强化石燃料的开采利用，能从根本上解决能源危机
D ．推广使用煤液化技术，可减少二氧化碳等温室气体的排放
3．下列措施不合理的是 ．．．
A ．用SO 2漂白纸浆、毛、丝等
C ．用明矾对自来水进行杀菌消毒 B ．用焦炭高温还原SiO 2制粗硅
D ．用Na 2S 作沉淀剂除去污水中的Hg
4．新版人民币的发行，引发了人们对有关人民币中化学知识的关注。下列表述不正确的是 ．．．
A ．制造人民币所用的棉花、优质针叶木等原料的主要成分是纤维素
B ．用于人民币票面文字等处的油墨中所含有的Fe 3O 4是一种磁性物质
C ．防伪荧光油墨由颜料与树脂连接料等制成，其中树脂属于有机高分子材料
D ．某种验钞笔中含有碘酒溶液，遇假钞呈现蓝色，其中遇碘变蓝的是葡萄糖
5．2015年，我国科学家屠呦呦因发现青蒿素而荣获诺贝尔奖。由植物黄花蒿叶中提取的青蒿素还可合成用于抗氯喹恶性疟及凶险型疟疾的蒿甲醚，其合成路线如下：
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学年第一学期期末教学统一检测参考答案 高三数学(理科) 2016.1 学校___班级___姓名___考号___ 本试卷共 5 页,150 分。考试时长 12...铝盐絮凝除氟过程中生成的具有很大表面积的无定Al(OH)3(am)原体对氟离子产生氢键吸附，氟离子半径小，电负性强，这一吸附方式很容易发生。 络合沉淀：F-能与Al3+形成从AlF2+、AlF2+、AlF3到AlF63- 等6种络合物，通过络合沉降而去除F-。络合离子方程式如下： F-+ Al3+→AlF2+↓+ AlF2+↓+ AlF3↓+ AlF4-↓+ AlF52-↓+ AlF63-↓ 9.含磷废水 钙法除磷在沉淀法除磷中,化学沉析剂主要有铝离子、铁离子和钙离子,其中石灰和磷酸根生成的羟基磷灰石的平衡常数最大,除磷效果最好.投加石灰于含磷废水中,钙离子与磷酸根反应生成沉淀,反应如下: 5Ca2++7OH-+3H2PO4-=Ca5(OH)(PO4)3↓+6H2O(1) 副反应:Ca2++CO32-=CaCO3↓(2) 反应(1)的平衡常数KS0=10-55.9.由上述反应可知除磷效率取决于阴离子的相对浓度和pH值.由式(1)可知磷酸盐在碱性条件下与钙离子反应生成羟基磷酸钙,随着pH值增加反应趋于完全.当pH值大于10时除磷效果更好,可确保达到出水中磷酸盐的质量浓度<0.5mg/L的标准. 反应(2)即钙离子与废水中的碳酸根反应生成碳酸钙,它对于钙法除磷非常重要,不仅影响钙的投量,同时生成的碳酸钙可作为增重剂,有助于凝聚而使污水澄清.
钙法除磷,控制pH=11～11.5,出水经中和后排放或回用。 10.含汞废水 汞主要消耗在氯碱工业上，用于DOWN、DENORA或其他类似的电解池中，其次是用于电力电子工业。此外，炸药制造业、杀虫剂和防腐剂生产及照相业也要使用汞，在化工和石油化学工业中，汞被用做塑料生产以及加氢、脱氢、磺化、氧化、氯化和酸解等反应的催化剂。 排入水体中的汞及其化合物，经物理、化学及生物作用形成各种形态的汞，甚至会转化成毒性很大的甲基类化合物。含汞废水的危害问题早已被人们所认识，并11
已开发出多种物理和化学的处理方法。但是这些方法依然存在许多弊端而制约了其广泛的工业应用，含汞废水仍然是环境的重要污染源之一。针对含汞废水已开发出多种物理和化学的处理方法，主要是针对无机汞，对有机汞的处理方法目前尚处于研究阶段。含汞废水的处理及回收汞通常是同时考虑的，其传统的处理方法主要有化学沉淀法、金属还原法、活性炭吸附法、离子交换法、电解法、微生物法等。 化学沉淀法是应用较普遍的一种含汞废水处理方法，能处理不同浓度、不同种类的汞盐，尤其当汞离子浓度较高时，应首先考虑化学沉淀法。常用的化学沉淀法方法有混凝沉淀法和硫化物沉淀法两种。
混凝沉淀法：其原理是在含汞废水中加入混凝剂（石灰、铁盐、铝盐），在pH为8~10的弱碱性条件下，形成的氢氧化物絮体，对汞离子有絮凝作用，使汞共沉淀析出。如原水（呈酸性）含汞浓度为0.3~0.6mg/L，经石灰中和及 FeCl3混凝沉淀后，出水含汞浓度降到0.05~0.1mg/L。
在混凝沉淀法除汞的研究中，先在生活污水中加入 50～60μg/L的无机汞，然后用铁盐或明矾聚集并过滤，两种方法都可使含汞量降低 94%～98%。用石灰混凝剂处理500μg/L的高浓度含汞废水，过滤后汞的去除率达到70%。某工厂中试比较了明矾和铁盐对无机汞和甲基汞的处理效果，结果表明铁盐能有效地除去汞，一般铁盐比铝盐的除汞效果好。另一项研究结果也报道了类似的结果。此外还发现，即使混凝剂用量增加到100~150mg/L，也不能改善汞的去除效果。经明矾处理后，汞的出水含量为1.5~102μg/L，铁盐处理后则为0.5~12.8μg/L。但当初始汞浓度较低时，明矾和铁盐的混凝处理效果相似，此时汞的出水含量较低，为0.5~5.0μg/L。
用明矾处理含汞废水的优点是节省费用，仅相当于硫化钠法的1/3，操作简单，沉降速度快，经处理后，含汞量可降至 0.02～0.03mg/L，但此法对浓度较高、水质较清的含汞废水，其效果不如硫化钠法。 硫化物沉淀法在理论上是一个十分优越的方法，也是目前应用最广泛的化学沉淀法。在汞的化合物中，除了硝酸汞和氯化汞，大多都难溶于水，其中以HgS、Hg2S的溶解度最小，因此在含汞废水中加入Na2S，从理论上能将Hg2+以HgS的形式几乎完全去除。当初始汞浓度较高时，硫化物沉淀法可以达到99.9%以上的12
化学沉淀法可与絮凝、重力沉降、过滤或气浮等分离过程相结合。这些后续操作可增加硫化汞沉淀的去除效果，但不能提高溶解汞本身的沉淀效率。
当初始汞浓度较高时 ，硫化汞沉淀法可以达到99.9%以上的去除率。但即使经过滤或活性炭深度处理 ，出水中汞的最低含量也有10～20μg/L。在不增加硫化物用量的前提下，在中性 pH值范围内沉淀效果最佳 ，当 pH值 >9.0时，沉淀效率会急剧降低。除了不能把汞含量降至10g/L以下的缺点外，该法还有其他不足之处：
⑴在硫化物过量较多时会形成可溶性汞硫络合物，特别在S2-过量时，由于有生成HgS22-络离子的倾向，从而使HgS的溶解度增大，不利于汞的去除，因而必须控制沉淀剂S2-的浓度，不要过量太多；
⑵硫化物过量程度的监测较困难；
⑶处理后出水的残余硫会产生污染问题。近年来，各国为了使该法更加完善和提高，进行了广泛研究，使该法与其他方法联合使用，取得了很好的效果。例如：与还原法、电解法等并用，可以提高沉淀速度和除汞效率；加入适量FeSO4等可以消除加入硫化物过量时带来的H2S污染；与气浮法等联合使用，可以大大缩短处理时间和提高效率。
由于硫化物沉淀颗粒非常微细，大部分悬浮于废水中，尤其在低温生成的硫化汞极细，或成分散体，不易沉淀和过滤除去，据溶度积规则加入适量铁盐或锌盐的硫化物沉淀转化法和加入铁系或铝系混凝剂的絮凝沉淀法。
有的工厂用硫化氢钠、明矾二步处理汞含量为25mg/L的废水，处理后排出水汞的含量可降至0.006～0.05mg/L。
由于产生共沉淀，故加入明矾可提高沉淀效率硫化物沉淀法处理所引起的环境问题是富汞沉淀污泥的不断积累，这种污泥或者以环境可接受的方式处置，或者进一步用以回收汞。有机汞废水需要先用氯进行氧化分解，再用硫化物沉淀法进行脱汞处理。
11.氢氟酸回收 氢氟酸在光伏、冶金、玻璃行业中被广泛用于蚀刻和清洗过程中，使用过的氢氟酸废液一般还存1―10%有效浓度，但是含有大量的悬浮固体和颗粒物，造成该废液无法回用，并且传统的沉淀分离工艺也无法实现氢氟酸废液中悬浮物与氢氟酸的有效分离。因为氢氟酸废液中悬浮颗粒物浓度很高，不适合采用传统过滤器，滤芯、袋滤器进行截留，也不适用于超滤分离，同时颗粒物的沉淀性极差，也不适合采用沉淀或气浮方式进行固液分离。因为氢氟酸要回收使用，不可添加药剂，所以无法采用传统沉淀池工艺进行固液分离。 12．研磨废水
化学机械研磨(CMP)制程已经广泛使用于半导体业晶圆的制造程序，对于晶圆表面全面性平坦化是有效的制程。CMP废水包含碜杂谘心ヒ骸⒕г脖旧硪约CMP 后续清洗程序所产生的各种无机及有机污染物质，大部份的无机物质系以氧化物存在，主要的非溶解性无机物碜匝心ヒ旱捻屏＃SiO2、Al2O3及CeO2（氧化铈），还有一些在研磨时从晶圆本身掉下淼奈藁镏(例如：金属、金属氧化物及低介电材料等)。溶解性的无机物质包含溶解性硅酸盐与氧化剂。 晶体硅产生的废水主要包含切割液、
聚乙二醇、碱性清洗剂、硅粉和碳化硅。其特点是COD、SS
含量较高，BOD严重不足，可生化性非常差。 CMP废水中的有机物包含界面活性剂、金属错合剂以及其他物质。为了移除在晶圆表面的上述物质，需要使用大量超纯水于CMP后续清洗程序。研磨废水是通过机械研磨所产生的，其中废水中的主要污染因子为SS、浊度、研磨液等。 针对该类废水,目前国内运用较为广泛和技术较成熟的方法是采用混凝法处理，运用碱调节PH值、加入铝盐混凝剂处理，使其中的SS以沉淀形式与溶液主体分离而得以净化。 絮凝沉淀是颗粒物在水中作絮凝沉淀的过程。运用碱调节PH值（8～9.5、偏碱性、使Cu+2、Fe+2、Fe+3以及其它离子完全形成氢氧物）、在水中投加混凝14
剂后，其中悬浮物的胶体及分散颗粒在分子力的相互作用下生成絮状体且在沉降过程中它们互相碰撞凝聚，其尺寸和质量不断变大，沉速不断增加。悬浮物的去除率不但取决于沉淀速度，而且与沉淀深度有关。 13.晶体硅废水 晶体硅是制造集成电路、光伏太阳能电池的关键基础材料，是国家发展信息产业和光伏新能源产业的重要基石。然而在生产过程中，硅片生产企业产生大量成分复杂的工业废水。例如，将单晶硅棒切成片，一般片厚约0.3毫米。硅片经过成形、抛磨、清洗等工序，制成待加工的原料硅片。 由于生产所使用的化学品为清洗腐蚀、以及掺杂用的无机酸性、碱性, 包括: H2 SO4、NH3、H2O2、HCl、HF、H3 PO4、NaOH、IP4 等。所以在太阳能光伏电池的生产中生产产生的水污染物包括酸碱污水、含氟污水等。以下是污水产生的主要环节: ( 1 )表面腐蚀:在制造电池之前要先进行硅片的表面准备,包括硅片的化学清洗和硅片的表面腐蚀。通过化学清洗去除玷污在硅片上的各种杂质。通过表面腐蚀除去硅片表面的切割损伤,获得适合制结要求的硅表面。 ( 2 )制绒: 单晶硅的制绒工艺是碱制绒, 利用氢氧化钠(混合)溶液对单晶硅片进行各向异性腐蚀来制备绒;多晶硅的制绒工艺是酸制绒,通过加入铬酸和氢氟酸,利用铬酸的强氧化性15