ITO表面处理方法_百度文库
两大类热门资源免费畅读
续费一年阅读会员，立省24元！
ITO表面处理方法
&&ITO表面处理方法
阅读已结束，下载本文需要
想免费下载本文？
定制HR最喜欢的简历
下载文档到电脑，方便使用
还剩15页未读，继续阅读
定制HR最喜欢的简历
你可能喜欢ITO玻璃生产工艺相关参数及分类汇总ITO玻璃生产工艺相关参数及分类汇总帆鸿波百家号在普通玻璃的一个表面镀上一层氧化铟锡的导电膜，就形成了LCD常用的氧化铟锡玻璃，通常简称为ITO玻璃。基本结构基板：常用的基板厚度有1.10.70.50.5mm,0.4mm根据材料的不同，通常分为钠钙玻璃和硼硅玻璃两种。钠钙型玻璃优点：成本低缺点：含有钠、钾等离子，易产生渗透，影响产品性能硼硅型玻璃优点：玻璃硬度高，透过率好缺点：成本较高钠钙型玻璃基本成分：SiO2层：SiO2层的作用：主要是防止钠钙型基板中的金属离子扩散渗透到ITO层中，影响ITO层的导电能力。SiO2层的膜厚：标准膜厚一般为20-30nm。ITO（indium Tin Oxid）层：为氧化铟锡的透明导电层，其中I表示In2O3，T表示SnO2，一般Sn（即Tin）的含量约为10%。随着ITO层厚度的增加，ITO层的厚度逐渐减小。分类根据基板玻璃表面状态的不同，通常分为以下三种类型：TN：未抛光型，直接在玻璃的浮法面进行镀膜。HTN：简单抛光型/TN精选玻璃，将玻璃的浮法面进行简单的抛光后，在抛光面进行镀膜。STN：超抛光型，将玻璃的浮法面进行精细的抛光后，在抛光面进行镀膜。生产工艺ITO玻璃的生产工艺流程主要分为以下三个步骤：1、切割倒角：2、抛光；3、镀膜注：TN型玻璃不需要抛光，生产工艺流程更简单。切割磨边的工艺流程：磨边类型及规格要求：通常分为C型和R型两种倒角的形状及公差：抛光工艺流程：用研磨料将玻璃表面磨平，使玻璃表面平整。对于STN型ITO玻璃是必须经过的一道生产流程。镀膜工艺流程：镀膜方法：镀膜的方法有：喷雾法；涂覆法；浸渍法；化学气相沉积法；真空蒸发法；测射法，但目前工业化最有效的方法是磁控测射法。磁控测射法：在高真空反应室中充入一定比例的02和Ar的混合气体，在直流高压下，Ar被电离，在电场作用下轰击靶材，使铟和锡以原子和离子形式溅射出来，沉积在基板玻璃表面，同时被氧化，形成氧化铟锡膜。评价参数透过率在波长为550nm的光波照射下，具有SI02阻挡层玻璃的透过率不小于80%，其主要取决于玻璃材料、ITO厚度和折射率。透过率定义：透过玻璃的光透量T2与入射光透量T1之比的百分率Tt=T2/T1X100%方块电阻：d为膜厚，I为电流，L1为膜厚在电流方向上的长度，L2为膜层在垂直电流方向的长度，ρ为导电膜的体电阻率。ρ和d可以认为是不变的定值，当L1=L2时，为正方形的膜层，无论方块大小如何，其电阻率为定值ρ/d，这就是方块电阻的定义，即R=ρ/d平整度平整度可用h/1表示，意思为在长度为L的范围内，表面最高点与最低点的差值为h。ITO玻璃基板平整度参数包括：1、玻璃表面粗糙度；2、基板表面波纹度；3、基板翘曲度；4、基板垂直度‘5、ITO膜表面粗糙度；6、ITO玻璃基板、膜厚均匀度。基板翘曲度用h/L表示（如图），即翘曲的高度与翘起边的长度之比。其中要求如下：1、厚度≥0.7mm的基片玻璃，翘曲度（h/L）≤0.1%2、厚度≤0.55mm的基片玻璃，翘曲度（h/L）≤0.15%3、不允许有S形翘曲基板垂直度：用a/L表示（如图）。用来描述玻璃基板四条边互相垂直的程度。化学稳定性ITO镀膜层的耐化学性能应符合表2中技术要求。a、耐碱性镀层在温度为60±2℃，浓度为10%的氢氧化钠（分析纯）溶液中浸泡5分钟，ITO膜的方电阻与浸泡前的方电阻相比不得超过110%。b、耐酸性在25±2℃，6%盐酸（分析纯）溶液中浸泡2分钟，ITO膜的方电阻与浸泡前的方电阻相比不得超过110%。c、耐溶剂性能将镀膜玻璃放入丙酮（分析纯）、无水乙醇（分析纯）中浸泡5分钟后，ITO膜的方电阻与浸泡前的方电阻相比不得超过10%。热稳定性在空气中经过30分钟300±5℃（触摸屏用ITO玻璃是在200±5℃）高温后，ITO膜的方阻的变化率小于300%附着力用3M交代粘在玻璃表面迅速撕开，ITO层无明显开裂现象。ITO膜面的判定浮法方向：在基板玻璃制造过程中，液态玻璃流动的方向。主要判定方法(1)将万用表打至欧姆档，用探针分别测试两个点，如果显示不“1”，则所测试面为ITO膜面。(2)用方块电阻测试仪测试面电阻，如果显示电阻无穷大，则所测面为非ITO膜面。(3)通过大角设别：以16X14英寸的玻璃为例。常见问题本文仅代表作者观点，不代表百度立场。系作者授权百家号发表，未经许可不得转载。帆鸿波百家号最近更新：简介:本人有丰富的写作经验。作者最新文章相关文章您好，欢迎回来
您好，欢迎来到中国供应商！
生产 光刻胶 安智AZ系列 高感光 高附着 湿法刻蚀 干法刻蚀 成分稳定 大学研究所长期合作
生产 光刻胶 安智AZ系列 高感光 高附着 湿法刻蚀 干法刻蚀 成分稳定 大学研究所长期合作
生产正性负性光刻胶PR安智AZ系列AZ1500高感光度高附着性适合湿法刻蚀工艺成分稳定圆片级封装（WLP）用正性负性光刻胶PR安智AZ系列AZ50XTAZ10XT高分辨率高纵宽比高附着性电镀工艺高耐受性凸点UBM工艺成分稳定应用广
童先生经理
营业执照已上传
邮箱已验证
手机已验证
微信已验证
发货地广东 深圳
发货期限10天内发货
供货总量500公斤
营业执照已上传
邮箱已验证
手机已验证
微信已验证
公司地址|广东 深圳 宝安区 龙华新区白石龙华富锦大厦
查看全部分类
本页信息为深圳市启耀光电有限公司为您提供的""产品信息，如您想了解更多关于"生产 光刻胶 安智AZ系列 高感光 高附着 湿法刻蚀 干法刻蚀 成分稳定 大学研究所长期合作"价格、型号、厂家请联系厂家，或给厂家留言。
加工定制是种类化合物半导体特性生产用途大学研究所
生产 光刻胶 安智AZ系列 高感光 高附着 湿法刻蚀 干法刻蚀 成分稳定 大学研究所长期合作
深圳市启耀光电有限公司是一家服务于半导体和光电子行业的产品贸易及技术服务提供商。公司创立于2014年，已成为国内半导体、光电子行业、相关研究所和大学可以信赖的合作伙伴；公司秉持以忠诚态度对待新旧客户，以客户满意为导向，提供优质高效率的专业服务，导入以代理原厂产品为中心的共用通路平台，提供产品行销及技术支援解决方案。我们期望成为一家经营高科技设备，相关设备配件，材料及技术整合服务的专业供应商。力求服务与营运的创新，公司与客户间利益关系，以维持企业永续的竞争优势。主要产品范围 ：1、&液晶面板(TFT)正型光刻胶2、&触摸屏（Touch Panl）正型光刻胶，超黑矩阵(BM)黑胶，OC光刻胶，卷对卷（Roll to Roll）工艺光刻胶，柔性性路板光刻胶，FPC工艺用正胶3、&倒装(Bumping)工艺光刻胶：适用于电镀铜(ECP)工艺，凸点下金属（UBM）工艺；重布线层（RDL）工艺；影像感测器封装(Copper/Au Piller bump)工艺光4、&LED行业：台阶刻蚀（MESA）工艺正胶，蒸镀（Lift-off）工艺负胶，透明电极（TCL）工艺正胶，电流阻挡层（BCL）工艺正胶，钝化层（PV）工艺正胶，高压芯芯片（HV）工艺正胶。5、&手机盖板行业：3D喷涂曝光型光阻油墨（黑白色），喷涂曝光纹理光阻油墨，喷涂曝光抗氢氟酸光阻油墨，水性防爆胶，变色光阻油墨；6、&铜制程工艺：铜制程表面处理剂，铜腐蚀液，不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去胶液7、&其它配套试剂：高纯低杂质显影液，不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去胶液, 不伤金属（Ni,Al,Au,Ag等）去腊液，洗边剂(EBR)，不伤铝二氧化硅腐蚀液(BOE)，光刻胶稀释剂，氧化铟锡(ITO)腐蚀液，SiO2抛光液，钻石抛光液，SiO2抛光清洗剂（不伤铝）；8、&其它配件：MOCVD外延设备配件（石英配件，钨钼配件，加热器，周边设备配套）；刻蚀机和蒸发台等设备配件；9、&生产制程辅助工具和材料：Tray盘，花篮，膜，针等
供应商信息
深圳市启耀光电有限公司位于广东深圳宝安区专业从事光刻胶、喷涂防爆油墨、曝光显影油墨、UV油墨，我们具有多年的光刻胶相关产品与服务的销售和经验。凭借专业的技术，诚信的经营，和不断创新的精神公司发展迅速。在发展的同时公司不忘不断总结不断优化为客户的服务，和一如既往的热情赢得了新老客户的极高评价及青睐。深圳市启耀光电有限公司咨询联系人仝经理先生,8
主要产品范围 ：
1.生产 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ系列 AZ6112 AZ6130
高感光度 高产出率 很宽的膜厚范围 适合干法刻蚀工艺 成分稳定 应用广 2.生产 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ系列 AZ3100
G线 I线通用 高附着性 适合干法湿法刻蚀工艺 成分稳定 应用广
3.生产 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ系列 AZ1500 高感光度 高附着性 适合湿法刻蚀工艺 成分稳定 应用广17.盖板行业 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃
感光油墨 快干 OD值高 喷涂油墨 耐酸碱 曝光曝光能量低 分辨率高 成分稳定 效果好
18.盖板行业 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃
UV油墨 快干 OD值高 喷涂油墨 耐酸碱 曝光曝光能量低 分辨率高 成分稳定 效果好19.盖板行业 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃
透明光阻 高分辨率 透过率高 喷涂油墨 耐酸碱 曝光能量低 分辨率高 成分稳定 效果好
20.盖板行业 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃
纹理油墨 高分辨率 透过率高 喷涂油墨 耐酸碱 曝光能量低 分辨率高 成分稳定 效果好21.盖板行业 防爆油墨 曝光油墨 3D曲面玻璃
BM光阻 快干 OD值高 喷涂油墨 耐酸碱 曝光曝光能量低 分辨率高 成分稳定 效果好22.盖板行业 3D曲面玻璃 喷涂 防爆油墨 液体防爆胶 水性防爆膜 黑色 透明色 粘度好 强度高 产能高
公司所在地
广东 深圳 宝安区 龙华新区白石龙华富锦大厦
主营产品或服务
童先生经理
地址广东 深圳 宝安区 龙华新区白石龙华富锦大厦
公司主页www.guangkejiao.com
广东 深圳 宝安区 龙华新区白石龙华富锦大厦
深圳市启耀光电有限公司
国家会议中心
大连星海会展中心
深圳会展中心
武汉科技会展中心
国家会展中心（上海）
中国国际展览中心（老馆）
上海新国际博览中心
深圳会展中心
中国国际展览中心（老馆）
免责声明：
本页面所展现的 生产 光刻胶 安智AZ系列 高感光 高附着 湿法刻蚀 干法刻蚀 成分稳定 大学研究所长期合作 信息及其他相关推荐信息，均来源于其对应的商铺，信息的真实性、准确性和合法性由该信息的来源商铺所属企业完全负责。中国供应商对此不承担任何保证责任。
友情提醒：
建议您在购买相关产品前务必确认供应商资质及产品质量，过低的价格有可能是虚假信息，请谨慎对待，谨防欺诈行为。
深圳市启耀光电有限公司
地址：广东 深圳 宝安区 龙华新区白石龙华富锦大厦
技术支持：
主办单位：中国互联网新闻中心
版权所有 中国互联网新闻中心 中国供应商(www.china.cn)
成功收藏此产品
图片验证码当前位置：
&进行光刻之后的刻蚀，有什么腐蚀液能刻蚀掉ITO，而不跟SiO2、SnO2反应？
进行光刻之后的刻蚀，有什么腐蚀液能刻蚀掉ITO，而不跟SiO2、SnO2反应？
进行光刻之后的刻蚀，有什么腐蚀液能刻蚀掉ITO，而不跟SiO2、SnO2反应呢？谢谢！
可以不腐蚀SiO2，但无法不腐蚀SnO2。
ITO=铟锡氧化物，看楼主的意思是要选择性的刻蚀掉铟氧化物，而保留锡氧化物嘛？
铟锡氧化物是掺杂滴，要去除肯定一起没了亲
腐蚀液的主要成分是一种王水（HCl+HNO3混合液），ITO主要成分In2O3：SnO2=9:1的固溶体，In2O3与SiO2、SnO2相比，化学稳定性要差很多，所以可以保证腐蚀液在腐蚀ITO时，不会腐蚀玻璃的SiO2阻挡层，
我们用的是HCL和H2O2的混合液，具体比例要看厂家，直接找蚀刻药水就行了。
我有直接刻蚀的药水，你需要不？？？？
但是下面是sno啊，和sio是混合的还是叠层的？
24小时热帖
下载小木虫APP
与700万科研达人随时交流