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来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2016-03-25 20:39 标签： 优质是什么意思
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提供服务支持 &恩智浦张伟超：做最优秀的调光与非调光驱动开发商
日 10:32 来源：LED网 作者：发烧友之友 (0)
　　作为业界首款调光器芯片，恩智浦SSL年面世以来，即以每年超千万片的销售量成为目前市场上销售数量最多、认可度最高的一款调光驱动器芯片。
　　&五十年的技术积累造就了恩智浦产品在驱动领域的领先性。产品竞争优势绝对不仅仅是价格，更多的是性价比，恩智浦的优势在于致力于将产品的性能发挥到极致。&张伟超这样总结恩智浦发展的强劲动力。
　　恩智浦半导体前身为飞利浦公司事业部，2006年正式成立，以其领先的射频、模拟、电源管理、接口、安全和数字处理方面的专长，为客户提供高性能产品及解决方案。近日，记者有幸采访到恩智浦大中华区照明产品市场经理张伟超先生，与其就恩智浦创新理念及未来LED驱动发展趋势等问题进行了深入交流。
　　恩智浦大中华区照明产品市场经理张伟超先生
　　性能最优是不懈追求
　　随着LED 的蓬勃发展，调光器芯片市场需求也在逐步增大。张伟超认为，有好的市场需求，恩智浦就需要开发出更好的产品，以及更好的价格支持，这样，新品会有一个很好的销售前景。
　　恩智浦产品定位非常清晰，产品覆盖整个LED 照明应用。根据不同的应用领域分为三个方面：非调光的LED替换灯驱动，调光的LED替换灯驱动及LED灯具驱动。如此划分一方面有利于客户最短时间找到最合适的产品。同时有利于恩智浦根据相关应用来做最好的性能和成本的优化。
　　恩智浦一直在追寻最有价值，最有市场驱动的产品，且不断开发出性能更好，系统成本更优的方案来满足客户的需求，帮助客户降低系统成本，提高产品的竞争性。
　　作为领先的LED驱动芯片开发商，恩智浦在调光和非调光驱动方面均拥有多款值得骄傲的产品。
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干涉光刻技术
英文：interference lithography（IL）定义：干涉光刻技术是一个无需用到复杂的光学系统或光掩膜而制备精细结构的技术手段。
干涉光刻技术基本原理
干涉光刻技术（或全息光刻技术）的基本原理与干涉测量法或全息法的原理相似。两个及以上的相干光波构成的一个干涉图样被建立起来并在一个记录层被记录（光刻胶）。这个干涉图样由周期性序列的条纹组成，这些条纹分别代表最大强度及最小强度。在曝光后的光刻处理过程中，与此强度周期性变化图样相对应的光刻胶图样就此出现。
对于两束光波干涉，条纹间距或周期由(λ/2)/sin(θ/2)给出，其中λ为波长、θ为两束相干光波之间的夹角。从而，能够达到的最小周期为波长的一半。（注意：下图中的光束夹角为2θ，从而图中的公式为p=(λ/2)/sin(θ)；图片原地址见扩展阅读）
通过利用三束干涉光波，具有六边形对称结构的阵列能够被制成；而利用四束光波，具有矩形对称结构的阵列能够被制成。从而，通过叠加不同光束组合，不同的结构便得以制备出来。
干涉光刻技术相干性要求
要使全息刻蚀法能够顺利进行，相干性的要求必须满足。首先，必须使用空间相干光源。这实际上是一个结合了准直透镜的点光源。激光或同步加速器光束也经常被使用以保证在分束前得到统一的波振面。其次，应优先考虑单色的或时域相干的光源。这可直接通过激光实现，但采用宽带宽的光源时需增加滤光片。如果分束器为衍射光栅则对于单色行的要求可以被忽略，原因为不同的波长将被衍射至不同的角度但最终还是会聚集到一起。但即使在这种情况下，空间相干性以及正入射仍然为必要条件。
干涉光刻技术分束器
为达到干涉的效果，相干光必须在汇聚前被分束成两个及以上数量的光束。常用的分束方法有劳埃德镜（Lloyd's mirrors）、棱镜及衍射光栅。
干涉光刻技术应用及用途
采用全息刻蚀法的优势在于能够快速的在大面积内制备密集的特征结构而不失焦。从而，它经常被用于检测新型波长刻蚀技术（如EUV、193nm浸泡等）的光致抗蚀工艺。除此之外，高功率脉冲激光的激光干涉光束基于光热或光化学机制可以在材料表面直接进行处理（包括金属、陶瓷及高分子聚合物）。由于上述特征，这个方法也被叫做“直接激光干涉制纹”（Direct Laser Interference P DLIP)[1-3]
。利用DLIP，不同的结构能够在数秒内直接在基底上被制成，得到大面积上的周期性阵列。这样具有纹路的表面有不同的应用之处，包括摩擦学（对摩擦及磨损的降低）或生物科学。而对于传统上采用电子束刻蚀需要用时较长的纹路，也可以采用电子干涉刻蚀法快速制成[4-5]
干涉刻蚀法的劣势在于它只能够被用于制备阵列特征结构。从而，若要绘制任意图样的纹路，还需要采用其他光刻蚀技术。与此同时，非光学效应，如致电离辐射所产生的二级电子，在采用干涉刻蚀法时无法被避免。例如，二级电子范围可以大概被表面碳污染宽度（约20nm）表征，此污染是由一个聚焦后（2nm）的电子束产生的。这表明，利用刻蚀来得到半间距为20nm或更小的特征结构将会被刻蚀图样之外的其他因素严重影响到，如真空的洁净程度。
．WILEY Online Library．[引用日期]
．WILEY Online Library．[引用日期]
．Science Direct．[引用日期]
．AIP Applied Physics Letters．[引用日期]
．IEEE Xplore．1995-5[引用日期]
企业信用信息心理提醒:我们要学习向日葵，做一个积极吸收正能量的人；生活中其实没多少大风大浪，人生多数时候都是自寻烦恼，所谓自寻烦恼，就是吸收的负能量太多；要学习向日葵，哪里有阳光就朝向哪里，多接触优秀的人，多谈论健康向上的话题，心里若是充满阳光，人生即便下雨也会变成春雨
发布： 18:51:31作者：CCTV证券资讯博览
【心理提醒】我们要学习向日葵，做一个积极吸收正能量的人；生活中其实没多少大风大浪，人生多数时候都是自寻烦恼，所谓自寻烦恼，就是吸收的负能量太多；要学习向日葵，哪里有阳光就朝向哪里，多接触优秀的人，多谈论健康向上的话题，心里若是充满阳光，人生即便下雨也会变成春雨。
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