真空镀膜机专用冷水机
苏州欧莱特制冷设备有限公司
公司主要产品有冷水机、冷风机、冷油机、冷却塔、模温机、恒温恒湿空调、水冷柜空调机组、螺杆冷水机组、冰水机、冷冻机、制冷机等一系列制冷设备。
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真空镀膜机专用冷水机
&R1 台￥36800.00
产品型号：OLT-15W
品&&&&&&&&牌：欧莱特
所&&在&&地：江苏苏州
更新日期：
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&苏州欧莱特制冷设备有限公司
&联&系&人：&&陈女士&
&手&&&&&&机：&&
&电&&&&&&话：&9&
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&邮&&&&&&编：&215124&
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&联系时,请一定说明是从谷瀑网看到的,谢谢
&品牌：欧莱特 &型号：OLT-15W &加工定制：是 &&类型：低温冷水机 &标准制冷量：46.5 kw&输入功率：15 kw&&应用领域：各行业 &&&
真空镀膜机专用冷水机由苏州欧莱特制冷设备有限公司生产：
镀膜机专用冷水机俗称有{冷冻机、冷却机、冻水机、冰水机、制冷机}。
工业冷水机按应用具体可分为真空镀膜机专用冷水机，真空镀膜机用冷水机价格，镀膜机专用冷冻机厂家，镀膜机用冰水机，水冷式冷水机，水冷式冻水机，水冷式冷冻机，水冷式冷却机，水冷式制冷机，水冷式冰水机，水式冷水机，水式冰水机，水式冻水机，水式冷冻机，水式冷却机，水式制冷机，苏州水冷式冰水机，苏州工业冷水机，小型风冷冷水机、水冷式冷水机、电镀冷水机、氧化冷水机、激光冷水机、镀膜冷水机、波峰焊专用冷水机、回流焊专用冷水机、曝光机专用冷水机、显影机用冷水机、超声波冷水机、挤出机专用冷水机、高频淬火专用冷水机、注塑机专用冷水机、电泳漆专用冷水机、制药专用冷水机、食品专用冷水机、不锈钢冷水机、电路板冷水机，按工况还可分风冷式冷水机、水冷式冷水机、低温冷水机、恒温冷水机等
镀膜机专用冷水机特点，
　　中频真空镀膜机一般要配一台冷水机作为镀膜机（主要是圆柱靶）的冷却设备
　　中频设备必须加冷却水，原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应，
　　电荷会聚集在电导有表面积，这样使电导发热所以采用中孔管做导体中间加水冷却。
　　冷水机有水冷式、风冷式两种，水冷式制冷效果较好，但需要冷却水，风冷式灵活方便，无需冷却水，适合缺水地区或需移动场合使用。本公司新近推出型冰热两用机，在
　　低温高精度控温领域有着广泛的用途。真空镀膜专用冷水机是本司研发生产的高效节能的制冷设备，广泛应用于各种真空镀膜，表面处理领域。超高真空溅射仪、光机、真空炉、镀膜机、加速器等科学仪器的理想配套设备。&
专门设计工业冷水机以满足不同的要求镀膜机冷水机：中频真空镀膜机一般要配一台冷水机作为镀膜机（主要是圆柱靶）的冷却设备中频设备必须加冷却水，原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应，电荷会聚集在电导有表面积，这样使电导发热所以采用中孔管做导体中间加水冷却。&
一、真空镀膜机原理：真空镀膜就是在高真空状态下通过高温将金属铝熔化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽。首先将卷筒状的待镀薄膜基材装在真空蒸镀机的放卷站上，将薄膜穿过冷却辊（蒸镀辊）卷绕在收卷站上，用真空泵抽真空，使蒸镀室中的真空度达到&－以上，加热蒸发舟使高纯度的铝丝在℃～℃的温度下融化并蒸发成气态铝。启动薄膜卷绕系统，当薄膜运行速度达到一定数值后，打开挡板使气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、冷却即形成一层连续而光亮的金属铝层。通过控制金属铝的蒸发速度、基材薄膜的移动速度等来控制镀铝层的厚度，一般镀铝层厚度在～&
真空镀膜机一般都是由真空系统、蒸发系统、薄膜卷绕系统、冷却系统、控制系统等主要部分组成。&
真空系统是由滑阀泵、罗茨泵、增压泵、扩散泵组成，抽真空过程分为三级，先是由滑阀泵进行初抽，达到一定真空度后罗茨泵工作，当真空室内的达到一定的真空度后，增压泵和扩散泵才打开，由增压泵和扩散泵来进一步提高并维持真空室内的高真空度（－）以满足蒸镀生产的需要。&
蒸发系统由蒸发舟夹座（电极）、蒸发舟变压器、蒸发舟、铝线盘支架、铝线输送电机等组成。蒸镀时蒸发舟被固定在夹座上进行加热，正常生产时蒸发舟的温度在－℃，高纯度的铝线由输送电机将其连续送到蒸发舟上并被气化。&
薄膜卷绕系统主要由放卷部、收卷部、展平辊等部件组成，它的作用是按照一定的速度和张力将基材薄膜输送到蒸镀区进行蒸镀后，再将镀有铝层的薄膜收卷成筒状卷膜。通过控制薄膜卷绕的速度、张力、以及展平辊的角度等工艺参数，可以避免产生皱纹而得到收卷整齐的膜卷。&
冷却系统主要由冷冻机、冷却液、冷却辊等部件组成，主要作用是提供薄膜蒸镀时（或蒸镀后）所需要的冷却温度（－&－℃），以防止薄膜受热变形。冷却系统所使用的冷却液为水丙二醇混合物，蒸镀时由冷冻机将冷却液冷却至所需要的温度，通过管道输送至冷却辊内，再由冷却辊对镀铝后的薄膜进行冷却。&
控制系统包括张力控制、速度控制、蒸发量控制，在蒸镀生产过程通过控制系统可以对薄膜的张力、运行速度、蒸发舟的状态和蒸发量、进行调整和控制。&
二、&&&真空镀膜机操作规范：&
1、&&&&&&&&开机：&
首先开冷却水，确认压力在公斤左右，开空压机，确认压力在公斤左右，开通主电源，打开深冷系统；确认所有的阀门关到位信号全部到位后，启动泵加热按纽，泵进入自动加热状态，观察、的真空度应该在&，大约一个半小时后，扩散泵温度达到左右，即可抽真空；在加热过程中将蒸发舟和铝丝调好，卷绕系统原膜装好，贴好美纹纸，设定好参数，根据穿膜方式，设定好放卷为上卷还是下卷，输入好卷径，调整好张力，即可将小车关入真空室，开始抽真空，正常情况下为自动抽真空，如果手动抽真空，则按照以下步骤进行。&
手动抽真空步骤：&
a)&&真空室关闭后，关闭放气阀、；手动将冷冻系统和冷扑集系统打到制冷状态；&
b)&&&开充气阀、、，打开滑阀泵、、，关闭充气阀、、，开碟阀、、，开旁通阀、，开低阀、；&
c)&当真空度达到&后关旁通阀开罗茨泵当真空度达到&后关旁通阀开罗茨泵
当真空度达到&&关闭低阀关闭维持阀打开增前阀开增后阀；当真空度达到&&关闭低阀关闭维持阀打开扩前阀开扩后阀；&
e)&&当真空度达到&－，即可加热，调整后镀膜&
手动放空步骤：&
f)&&镀完膜后，关闭扩后阀、增后阀；手动将冷冻系统和冷扑集系统打到加热状态；&
g)&关闭增前阀打开维持阀关闭扩前阀打开维持阀
h)&关闭罗茨泵、、，关闭碟阀、、，打开充气阀、、，关闭滑阀泵、、
i)&当主辊温度达到设定温度，后，打开放气阀、。&
2、&生产过程中异常处理：&
a)&&&真空自动情况下，发生阀门或泵打不开或者关不上现象主要检查阀门的到位信号是否正常；&
b)&&&卷绕不启动或者加不上张力？检查卷绕参数及卷径设定情况，电器柜内四个调速器的状态，如果有显示或的现象，则停止卷绕系统，按调速器面板的键复位，直到显示；&
c)&&&镀膜针孔较多，蒸发舟蒸发不良，阳极和铝丝对地短路。&
三、&&&安全规范：&
1、&真空系统为负压系统，加上系统中使用高温真空泵油，稍有不慎即有发生爆炸燃烧等危险，所以在工作过程中，必须严格安装操作流程和规范操作，要小心谨慎，热的泵体会有烫伤人的危险，旋转的部件会有夹伤人的危险，所以在生产过程中留意不可靠近增压泵和扩散泵，前级滑阀泵和罗茨泵运转是防护罩一定要完好，人员不要靠近；&
2、卷绕系统在运行过程中会有夹伤人的危险，所以在贴美纹纸和清理主辊是速度不能过快，不可超过，穿膜时速度不可超过。
苏州欧莱特制冷设备有限公司是一家专业研发、生产、销售制冷设备及温湿度控设备的厂商。如冷水机、冷风机、除湿机、恒温恒湿机、油温机、冷油机、冷热一体机（循环冷却水油风循环机）的设计、安装、售后维修与保养等为一体化的专业方案解决厂商。
欧莱特冷水机在各行业的运用特点及选型
一，&&&&&&&&&UV固化机：
特点：无级调光+水冷却+金属卤素灯=节能+低温+高效，灯室内采用水冷(欧莱特冷水机冷冻水)+风冷式排热，灯管下方加装隔热石英玻璃，有效降低被照物表面温度，保护干燥物品不会受热变形，延长灯管使用寿命；OLT水冷系列&适合：胶印机、凹印机、柔印机、上光涂布机等国内外印刷设备。胶印机如：德国曼罗兰、海德堡、高宝、日本小森、良明、三菱、樱井、北人等。凹印机如：瑞士博斯特、意大利赛鲁迪、西安黑牛、中山松德
二，&&&&&&&&&超声波清洗机：
&　经研究证明：超声波作用于液体中时，液体中每个气泡的破裂会产生能量极大的冲击波，相当于瞬间产生几百度的高温和高达上千个大气压，这种现象被称之为&空化作用&，超声波清洗正是用液体中气泡破裂所产生的冲击波来达到清洗和冲刷工件内外表面的作用。
第二超声波在液体中传播，使液体，与清洗槽在超声波频率下一起振动，液体与清洗槽振动时有自己固有频率，这种振动频率是声波频率，所以人们就听到嗡嗡声。
水清洗液最适宜的清洗温度为40-60℃，尤其在天冷时若清洗液温度低空化效应差，清洗效果也差。因此有部分清洗机在清洗缸外边绕上加热电热丝进行温度控制，当温度升高后空化易发生，所以清洗效果较好。当温度继续升高以后，空泡内气体压力增加，引起冲击声压下降，反应出这两因素的相乘作用。
终合经上因素，欧莱特牌工业冷水机能降低清洗剂温度，冷凝气态清洗剂，有效防止清洗剂的挥发
三，&塑胶业&
注塑&挤塑&吹瓶&压塑&吹膜、压延膜
标准型工业冷水机均能适用于上述行业。
&注塑&&模具冷却&
塑胶粒经加热溶化后注入模具中，凝结后，开模顶出成型塑胶工件，在连续生产过程中有需用对模具进行冷却，以缩短塑胶凝结时间，提高工件尺寸精度，成型质量、表面质量。&
冻水温度要求：6&18℃&
冻水温差要求：&2K或&&0.5K
冷水机组制冷能力与注塑机注塑量（通常称&安士&）相关，注塑量越大，所需制冷能力亦大。&
注塑机通常以锁模力的&吨数&标称，这就需要将&吨数&转换成&&安士&，但&吨数&与&安士&并非一一对应，下面的对照表仅为一般情况的下的转换关系，并有一定的上下偏差。&
挤压成型管材、线槽、电缆及各种塑料型材。&
加热溶化原料经模具成型后经过一冻水浴冷却，冻水浴池中的水温必须保持恒定。&
由于生产速度高，因面需大冷量机组。&
由于已有冻水池如果够大，机组可不配水箱。&
主要生产各类矿泉水瓶、汽水瓶。&
压缩空气干燥&-吹瓶需用清洁、干燥的压缩空气，利用工业冷水机提供的冻水作冷源可除去压缩空气中的水份。&
模具冷却&-冷水机能准确控制模具温度,提高产品质量，提高生产效率&
压缩空气干燥和模具冷却可使用同一冷水机作冷源&
&热力塑型&&
最常见产品为一些少容器，如酸奶杯&
塑料在恒定频率下被加热的模具挤压成型，保持恒定的温度是非常重要，对冷冻水的温差范围要求非常高，因此需要一个比例式冻水阀门来自却地精确地调节温度。&
液压系统&&
开模、合模、注料都需要液压系统完成，液压油吸收液压泵能量温度上升，通常油温不能高于60℃。&
冷却水温度大约在27℃较为合适，由于要求水温与模具不相同，因此需要电动水阀与模具冷却回路分开或需一个独立冷却系统。&
四，机械行业
在激光（镭射）系统中的激光发生源、光束控制器和电控柜都可能需要额外冷却。&
对冻水温度要求通常在15&22℃之间，对冻水精度要求通常为&1K或&&2K。部分设备可能要求&0.5K，&
另外部分设备对冻水电导率，耐腐蚀等有一定的要求。&
激光系统中通常在启动时对水温有一定要求，这样就需要在水回路中增加电加热。&
在部分系统中的光束控制器会要求独立冷却回路。&
对于激光系统中的特殊应用，都能专门设计工业冷水机以满足不同的要求。&
电极、焊接炉和切割器等均需要冷却。
如大、中型焊机电极焊嘴冷却；金、银手饰加工的电炉冷却等
通常小型至中型冷水机组。&
需要内外循环水泵系统或封闭水箱系统。&
&&切削加工&
许多切削加工机床（加工中心、车床、铣床、钻床等）中需要刀具或主轴高速转动产生热量，在切削过程中亦产生大量的热量。在这些机床设备中通常需冷却的部分如主轴、切削液、润滑油、液压油、电控柜等。&
非切削加工&
如电火花机，抛光机、研磨机等。&
使用冷水机组时水系统易容被一些铁屑堵塞，因些必需加装过滤器。&
需要内外循环水泵系统或封闭水箱系统。
&&在工业应用，冷冻水或其它液体的冷却泵是通过流程或实验室设备。工业冷水机是用于控制产品，机制和工厂机械冷却的各行各业。它们通常用于塑料工业的注塑和吹塑成型，金属加工切削油，焊接设备，&压铸&和机加工，化学加工，制药制定，食品和饮料加工，造纸，水泥加工，真空系统，X射线衍射，电力供应和发电站，分析设备，半导体，压缩空气和气体冷却。它们还用于冷却高热能，如核磁共振成像仪和激光专门的工程项目，并在医院，宾馆和校园。工业应用的冷水机组可以集中，每个机组冷却满足多种需求，或分散在每个应用程序或设备都具有自己制冷机。每种方法都有其优点。它也可能有一个中央和分权式制冷机相结合，特别是当冷却要求是对某些应用程序或使用积分相同，但不是全部。分散式冷水机组，面积小（制冷量）通常在0.2吨至10吨。中央冷水机组一般有能力从10吨到数百或数千吨不等。&
&&冷冻水是用来&清凉除湿&空气中的大型商业，工业和机构联盟（CII）设施。冷水机组可以是水冷，风冷，冷却或evaporatively。水冷式冷水机组使用纳入&冷却塔&其中改善制冷'热力学效率比风冷冷水机组。这是由于高温或附近空气的湿球温度，而不是排斥高，有时高得多，干球温度。&Evaporatively式制冷机提供更好的效率比空气冷却，但比冷水低。
苏州工业冷水机选型参考：
3P以下电压一般为单相220V,50赫兹(写法为：1P-220V-50hz)
4P以上电压一般为3相380V,&50赫兹(写法为：3P-380V-50hz)
水冷式冷水机每P(0.75KW)制冷量约等于3KW；风冷式冷水机每P制冷量约等于2.5KW；换算成大卡(KCAL)则约乘以0.86。有些顾客还用到美国冷吨(RT)1KW约等于0.285RT。有些会用到英热单位(BTU)1KW约等于3412BTU。冷水机在制作方面还有一点区分，水冷工的型以3P起生产(2.25KW)，风冷式则以0.5P起生产(0.37KW)。而此二款设备还有可有封闭式和开放式之分，可按环境空间或设计特点定做。其能效比是一样的。在40P以上功率的型号多用螺杆式机头，其机头款式为半封闭式。制冷剂也叫冷媒、雪种或氟里昂常用型号有R22，环保的有R407C、R134A、R410；
&苏州工业冷水机型号代码及常用单位、尺寸：
W代表水冷式、A代表风冷式，P即称匹，kw：千瓦，Kcal：大卡，
kg：公斤，m3/h：立方每小时，L/min：升每分钟，mm：毫米，
A：安(一般指电流)，V：伏(一般指电压)，Kpa:千帕，T：吨，
℃：摄氏度(温度)，db：分贝(指噪音)。
二、&&&&产品配置
水箱： 304不锈钢&水泵：台湾源立&压缩机：日本三洋（全新原装）&电器：LG&控制器：台湾邦普&风扇：顿力&蒸发器：欧莱特（紫铜）&冷凝器：欧莱特世纪（紫铜及铝片）&冷媒过滤器：美国艾柯&&机架、机壳：欧莱特（电脑喷灰镀锌板）
质量保证，欢迎咨询洽谈！
欧莱特售后服务
&&&为创造品牌，提高企业知名度，树立企业形象，我们本着&一切追求高质量，用户满意为宗旨&的精神，以&最优惠的价格、最周到的服务、最可靠的产品质量&的原则向您郑重承诺：&&&
&1、买方使用部门可以到我司进行免费设备操作培训；
&2、使用三个月后，我司客服部会对设备的使用状况回访；
&3、我司所售之设备，免费保修期为一年，保修期内，零配件的及维修均免费提供；但设备所有非正常损坏均不属保修范围，买方应支付更换零配件的费用。
&4、为消费者调试产品；根据消费者要求，进行有关使用等方面的技术指导；保证维修零配件的供应；负责产品终身维修服务；
5、免费保修期外，当设备损坏时买方需支付所更换配件费用（按材料采购成本计价）；
&6、接到客户电话及&设备故障通知书&后，通过远程维护，如维护不了江苏范围内24小时之内到达现场处理，江苏省以外72小时之内到达现场处理。
7、您只需拔打电话或用别的方式联系我们，我们就会为您解决任务技术问题。我们将24小时为您提供最优质的服务！
为什么要选择欧莱特及欧莱特所生产的机械设备？
首先谢谢您对欧莱特的支持。优质的产品，快速的服务才能得到您的信任。欧莱特的承诺是：不做不良品，只做正品，以科技为动力，以质量求生存。产品出货及时，答应客户的交货时间，只会提前。在保证出货时间内层层把关，严检达到合格方可出货。欧莱特有一支专业的售后服务团队，欧莱特承诺江苏范围内24小时之内到达现场处理，江苏省以外72小时之内到达现场处理。
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联系人：陈女士
联系地址：江苏省苏州市吴中区郭巷镇尹丰路188号技术支持：&&&&外出学习镀膜总结
外出学习镀膜总结
【工作总结范文】 池锝网
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篇一：镀膜分类个人总结 镀膜作用 我们的产品根据特性要求在生产过程中需要经过两次不同的镀膜，其镀上去的药品不一样，所以所起到的功能也是不一样的，但是值得提一点的是同样的药品同样的机台参数设置不同的情况下镀出来的效果和其作用也是不一样的。 如果把镀膜分类可以分为以下几类 蒸发镀膜 定义：在高真空中用加热蒸发的方法使镀料转化为气相，然后凝聚在基体表面的方法称蒸发镀膜（简称蒸镀）。 蒸发镀膜的三个过程： A）固相或液相气相 B）气化原子或分子在蒸发源与基片之间的运输
C) 蒸发源子或分子在基片表面上的沉积过程 优点：
1）设备比较简单，容易操作; 2）制成的薄膜纯度高，质量好，厚度可以较准确控制；3) 成膜速率快，效率高，用掩膜可以获得清晰的图形； 4）薄膜的生长机理比较简单； 缺点：1）不容易获得结晶结构的薄膜； 2）附着力较小； 3）工艺重复性不好； 蒸镀方法 (1)电阻加热蒸镀 加热器材料常使用钨、钼、钽等高熔点金属，按照蒸发材料的不同，可制成丝状、带状和板状。 (2)电子束加热蒸镀 Mo 利用电子束加热可以使钨（熔点3380℃）、钼（熔点2610℃）和钽（熔点3100℃）等高熔点金属熔化。（ 所要提到的是电子枪束蒸发过程中会产生软X射线对人体有害，所以在此过程最好不要趴在透视窗上观看） 溅射镀膜 溅射镀膜：是指在真空室中，利用荷能粒子轰击镀料表面，使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。 定义 用一定能量的离子轰击靶材使靶材分子脱离其表面，并使靶材分子输运到衬底上成膜的方法 优点 ? ? ? ? ? ? ? 任何物质均可用沉积 薄膜与衬底的附着力好 溅射镀膜密度高，针孔少，且膜层的纯度较高 膜厚可控性和重复性好 需要高纯溅射气体 典型工作气压为0.1mTorr-10mTorr 较短的平均自由程 缺点
设备复杂，需要高压装置，沉积速率较低 离子镀膜 离子镀就是在镀膜的同时，采用带能离子轰击基片表面和膜层的镀膜技术。离子轰击的目的在于改善膜层的性能。离子镀是镀膜与离子轰击改性同时进行的镀膜过程。 在磁控溅射时，将基片与真空室绝缘，再加上数百伏的负偏压，即有能量为100eV量级的离子向基片轰击，从而实现离子镀。 离子镀的原理 离子轰击，确切说应该既有离子又有原子的粒子轰击。粒子中不但有氩粒子，还有镀料粒子，在镀膜初期还会有由基片表面溅射出来的基材粒子。 离子镀也可以在蒸镀的基础上实现，例如在真空室内通入1Pa量级的氩气后，在基片上加上1000V以上的负偏压，即可产生辉光放电，并有能量为数百电子伏的离子轰击基片，这就是二极离子镀。（我们的AS AR机台在离子轰击的时候充入的是Ar所以会产生蓝色光； 之前我接触的机台在离子轰击的时候充入得是氮气所以产生紫色光）当然冲入气体的不同产生的光会不同。 对于真空蒸镀、溅射、离子镀三种不同的镀膜技术，入射到基片上的每个沉积粒子所带的能量是不同的。热蒸镀原子大约0.2eV，溅射原子大约1-50eV，离子镀中轰击离子大概有几百到几千eV。
直流二极型离子镀示意图： 1） 阳极；2）蒸发源；3）进气口；4）辉光放电区；5）阴极暗区；6）基片； 7）绝缘支架；8）直流电源；9）真空室；10）蒸发电源；11）真空系统； 良好的结合强度 对于以耐磨为目标的超硬膜，采用离子镀的目的是为了提高膜层与基片（工件）之间的结合强度。 其原因是离子轰击对基片表面的清洗作用可以除去其污染层，另外还能形成共混的过渡层。过渡层是由膜层和基片接口上的一层由镀料原子与基片原子共同构成的。如果离子轰击的热效应足以使接口处产生扩散层，形成冶金结合，则更有利于提高结合强度。蒸镀的膜层其残余应力为拉应力，而离子轰击产生压应力，可以抵消一部分拉应力。 离子轰击可以提高镀料原子在膜层表面的迁移率，这有利于获得致密的膜层。如果离子能量过高会使基片温度升高，使镀料原子向基片内部扩散，这时获得的就不再是膜层而是渗层，离子镀就转化为离子渗镀了。离子渗镀的离子能量为1000eV左右。 离子束轰击的另一个重要作用是： 在室温或近室温下能合成具有良好性能的合金、化合物或特种膜层，以满足对材料表面改性的需要。轰击离子既可以是惰性气体原子如Xe，AI，Ne，He等，也可以是反应气体原子如N，O，H以及各种有机化合物气体。 这种离子束辅助沉积可以看成是物理气相沉积和离子注入两种技术改造后有机地结合在一起。虽然使用的离子能量比一般离子注入低，不需要加速器这类昂贵的设备，但是比一般气相沉积设备还是要贵得多。从应用看，这种技术适用于要求精度高、耐磨性特别好的工模具上。 离子镀的类型和特点 离子镀设备要在真空、气体放电的条件下完成镀膜和离子轰击过程。 离子镀设备要由：真空室、蒸发源、高压电源、离化装置、放置工件的阴极等部分组成。 离子镀的缺点 氩离子的轰击会使膜层中的氩含量升高，另外由于择优溅射会改变膜层的成分。 我们国内外常用的离子镀类型如： 空心阴极离子镀（HCD）；多弧离子镀；离子束辅助沉积 具体镀膜方法和结构和直流二极型离子镀大致相似不做一一讲解 总结：三种PVD方法对比，如下表。 化学气相沉积（CVD） 定义：在相当高的温度下，混合气体与基体的表面相互作用，使混合气体中的某些成分分解，并在基体上形成一种金属或化合物的固态薄膜或镀层。 区别：化学气相沉积过程的基本步骤与物理气相沉积不同的是，沉积粒子来源于化合物的气相分解反应。这种镀膜方式是一种化学反应 化学气相沉积（CVD）的主要缺点 沉积温度高（900～1200℃），超过了许多任务模具的常规热处理温度，因此镀覆之后还需进行二次热处理，不仅引起基材的变形与开裂，也使镀层的性能下降 。 我们公司现在镀的药品有两种，二氧化硅而和二氧化钛。 AS镀膜 镀的药品是二氧化硅 AR镀膜 镀的药品是二氧化硅+二氧化钛 前者是镀在玻璃的表面上其作用是防尘防油污 后者是镀在摄像头孔的边缘其作用是聚光防止光线折射 对于我们公司的机台在结构上来讲应该是属在蒸镀和离子镀相结合的一种镀膜方式也可以称之为离子镀 1）抽真空过程： 真空系统用到的真空泵有扩散泵（Diffusion pump），大油封式旋片泵(Roughing pump)，罗茨增压泵(Blower pump) 干泵(Process pump)； AS AR真空系统图
图中英文符解释： 篇二：磁控溅射镀膜多年经验总结 黑色实验总结 1、材料对比 ⑴ TiC TiC是最常见、最经济的一种黑色硬质膜。颜色可以做到比较深，耐磨性能也很好，但其色调不够纯正，总是黑中略带黄色。并且由于钛的熔点相对较低，在溅射时易出现大的颗粒，使其光令度不易得到改善。防指印的能力也不好，擦后变黄、变朦。 ⑵ CrC CrC的总体色调相对TiC要好，虽然达不到TiC那样黑，但更纯正，带白。由于铬在溅射时直接由固态直接变为气态，故虽然铬的溅射系数很大，膜层沉积速率很快，但其光令度却比TiC好。防指印性能也比TiC好。Cr为脆性材料，膜层的残余应力对耐磨性能的影响尤为重要。 ⑶ TiAlC 由于铝有细化晶粒的作用，所以TiAlC膜层的光令度和防指印的能力均较好。但是铝的熔点很低，要求铝靶的冷却效果要好，施加在铝靶上的功率也不能太大。从TiAlC膜层本身来说，也要求铝的含量要低，不然不够黑。但如果铝靶的功率太低，很容易中毒。建议采用平面铝靶或使用一定铝含量的铝钛合金靶材。 ⑷ TiCrAlC TiCrAlC是用小平面靶试电的，结果光令度和防指印的能力很好，这可能有两个原因：①材料本身的光令度和防指印的能力较好；②采用平面靶轰击打底。其耐磨能力也比较好，这可能是由于：①TiCrAl靶材致密；②TiCrAlC本身比较耐磨；③小平面靶的功率密度比较高，溅射出的粒子能量较高，故膜层致密。 ⑸ TiCN TiCN是一种硬度与耐磨性能较好的薄膜，其颜色甚至可以比TiC更黑，手摸起来不光滑，有粘粘的感觉，但防指印的能力却很好，擦后不会变色，也不会变朦。 2、实验机配置 ⑴ 电源 ① AE中频电源 AE电源的精度很高，对靶材的要求不高，电源自我保护的能力比较强，也因此对真空度等外界条件的要求更苛刻，易灭辉。镀出的CrC膜层光令度与防指印的效果较好，但颜色黑中带蓝。耐磨性能也是试过的电源中最好的。 ② 新达中频电源 新达电源的功率比较大，可以并机使用的它的一大优势。镀出的CrC膜层很黑，但带白，耐磨能力比AE电源镀出的膜层要查差。 ③ 盛普中频电源 盛普电源的稳定性相对其它电源来说要差一些，实际功率不大。镀出的CrC膜层略显黄色，并且不耐磨。 ④ 实力源中频电源 实力源电源的功率是最大的，但是在低功率使用时辉光不稳定，大功率时噪音又比较大。 ⑤ 盛普直流电源 直流电源的辉光呈蓝色，说明溅射出的粒子的能量高一些。但直流电源镀膜时迟滞效应比较严重，镀膜时对膜层的颜色控制要难一些。 ⑵ 磁控溅射靶 ① 直接水冷铬靶VS间接水冷铬靶 直接水冷靶由于其冷却效果比较好，故可以使用较大功率的电源。（一般直冷的功率密度≤25W/cm2，间冷的功率密度≤15～20W/cm2）溅射出的金属颗粒更细小。在试电时直接水冷铬靶使用的是新达电源和AE电源，间接水冷铬靶使用的是盛普电源，结果是直接水冷铬靶镀出的CrC各项性能要好（电源也有影响）。并且，直接水冷铬靶中毒要浅，洗靶时间短。另外，间接水冷铬靶接AE电源时的辉光是蓝色的，溅射出的粒子能量高，再加上Cr的纯度比直接水冷铬靶高，有可能得到更好的镀层。在功率为3KW时，真空度为0.1Pa也能起辉，可以用于柱靶轰击打底实验。 平面靶VS圆柱靶 平面靶的冷却效果要比圆柱靶要好，所以通常可以镀出更好的膜层。由于平面靶的刻蚀地方不变，所以不易中毒，可以得到较厚的薄膜。如今试电的都是用直流电源轰击、打底，然后采用实力源中频电源镀膜，其结果都是膜层几个小时就剥落，没有对比出平面靶与圆柱靶的优劣。有必要用弧靶轰击打底，用平面靶镀膜，看镀出的膜层性能是否提高？ 磁场（非平衡VS平衡） 使用非平衡磁场的目的是为了扩展等离子体的区域,提高沉积在工件上的粒子的能量,从而改善耐磨能力。但是实验结果却是采用非平衡磁场后膜层的耐磨能力没有明显变化,光令度和防指印的能力反而下降了。从更换磁场后的靶面情况来看，靶面附近的光有所减弱，距离靶更远的地方的光增强了，这说明更换成非平衡磁场后等离子体的区域的确扩展了。另外，偏压电流也所上升，说明离化率也提高了。至于电源的电压上升，则可能是由于磁场总体上减弱的原因，并不是非平衡引起的。为什么实验结果与预想的不一样呢？我认为有以下几个原因：a 非平衡的程度比较高，使等离子体区域过大，沉积粒子的能量太大，在使膜层致密的同时增加了膜层的应力，而且等离子体区域扩大了之后沉积速率提高了，所以光令度下降，耐磨没有明显提高；b 电源的功率上升后，溅射量增加，沉积速率加快，影响光令度；c 在试电时没有得到最佳的镀膜工艺，实验结果有一定的误差。 对靶VS孪生靶 对靶是利用辉光放电的空心阴极效应而提高离化率，其效果要比孪生靶要好得多。根据不同的要求，对靶可以采用闭合式放置和镜像放置。 ⑶ 辅助源（灯丝） 对于单柱靶镀膜工艺来说，如果不加灯丝，膜层的颜色不均匀，易七彩，光令度和防指印效果特别差；对于中频来说，加灯丝后的效果不明显。在镀膜过程中，加灯丝后的C2H2的流量要稍微增加，说明灯丝起到了一定的离化作用，但作用不大。灯丝另一个作用是给工件加热，相对加热管加热来说，热电子碰撞加热不但使工件温度上升，而且给了沉积原子一个初动能，提高了其扩散能力，增加了膜层活性。 ⑷ 气管位置 目前提出了三种比较可行的通气方式：① 气管置于中频靶之间，以提高反应气体的离化率；② 气管一只靶旁边，其目的是把气管旁边的那只靶当作离化源，另一只靶作为溅射源；③ 把工作气体靠近溅射靶，反应气体靠近工件，以减缓靶中毒。 3、镀膜方法对比（中频VS中心靶+灯丝） 从理论上说中频的离化率要比单柱靶离化率高很多，其所镀膜层应该优于中心靶+灯丝工艺所得的膜层。但根据实验结果，中频镀膜在颜色、光令度和防指印的确有一定的优势，但是在耐磨性能方面反而更差。咎其原因，可能有以下几点：a 从辉光来看，使用中频电源的辉光大多数为白色（白色光是红、橙、黄、绿、蓝、淀、紫的复合光），相对与直流电源所产生的蓝色光来说其能量要低；b 使用中频电源时一般为定向磁场，溅射出的粒子集中在一个方向上，所以其辉光可以很强，在工件运行的轨迹上等离子体不连续，从而成膜不连续，其膜层生长是不连续的瞬间快速生长。而单柱靶是360°磁场，溅射出的粒子均匀分布在靶的周围，其粒子密度也不高，在工件运行的轨道上也是均匀分布，其膜层生长是连续匀速缓慢生长；c 中频镀膜的离化高一些，受偏压的影响也增大了，所得膜层的硬度提高，有利于防指印效果，而残余应力增大，对耐磨有所影响；d 中频的两只靶互为阴阳极，在作为阴极的靶溅射时，作为阳极的靶得到了冷却，减少大颗粒，提高光令度。 工艺参数的影响 ⑴ 偏压 施加偏压就是给了离子一个附加的能量，使膜层沉积的更加致密，但相应的应力也上升了。磁控溅
射的离化率在10%～20%，相对于热阴极的20%～40%和多弧的60%～90%来说其离化率很低，真空室内离子的比例少，受偏压影响也就要小一些。膜层中碳来源于C2H2，而C2H2只有离化成C+、CH+才能沉积在膜层中（还有极少的C2H2混入膜层），故膜层中的C元素在沉积在工件上之前都是受偏压影响的。当偏压高时，反溅的C+要比金属离子要多，使膜层的总体颜色变浅。另外，随着偏压的提高，膜层的硬度提高，有利于膜层的防指印效果，但不利于光令度。 ⑵ 占空比 占空比可以理解为镀膜时给工件施加偏压的时间，占空比越大，总体施加给离子的能量就越大，提高了膜层的硬度，有利于防指印能力，但太高的占空比易打火。 ⑶ 电源功率 正如上面所说，磁控溅射的离化率低，得到偏压施加的附加能量少，所以溅射出的粒子的初始能量和粒子在沉积在工件前的能量损失就更重要了，而电源功率越大，溅射出的粒子的初始能量越大。所以大功率是有利于膜层的耐磨性能的。 ⑷ 镀膜真空度 提高镀膜真空度就减少了粒子的碰撞次数，粒子的能量损失就少，有利于膜层耐磨性能。目前比较流行的低压成膜，其真空度≤0.1Pa，而且高真空度时靶材的刻蚀更均匀。 ⑸ 靶基距 用单柱靶+灯丝工艺，采用12根杆的大转架试电TiC，其结果是光令度和防指印效果明显得到改善，而且颜色也要比8根杆的小转架要青黑一些，没那么黄，但耐磨差了很多。 ⑹ C2H2流量控制 C2H2送入节奏对膜层的各项性能影响较大。一般采用先快后慢的方式。开始送入的C2H2流量过大，膜层易七彩，而且应力大，不耐磨；开始送入的C2H2流量太少，膜层的硬度下降，不耐磨，而且时间长，光令度不好。一般开始时C2H2流量在结束镀膜时C2H2流量的三分之一左右为好。 以上几个参数加上溅射靶的磁场是影响沉积离子能量和膜层残余应力最主要的因素。只有它们搭配合理，才能获得最佳的镀膜工艺，得到最好的膜层质量。 ⑺ TiN过渡层 加入TiN过渡层的目的是加硬低层，而获得更加耐磨的膜层。但是实验结果是单柱靶+灯丝工艺有TiN过渡层时耐磨能力确实有所提高，但对于中频镀膜工艺来说没多大的变化。可能是因为单柱靶+灯丝工艺镀出的膜层硬度没有中频工艺的高，另外，TiN过渡层的时间较短，没起到加硬底层的作用。 ⑻ 本底真空度 本底真空度越高，镀膜时引入的杂质就越少，使膜层的颜色更纯正。 ⑼ 时间 镀膜时间太长，将会使薄膜的光令度和防指印效果降低，而且，时间增加，膜层厚度增加，应力也会增加，可能使耐磨性能反而下降。 ⑽ 金属过渡层 镀膜前对工件进行轰击除去表面的氧化层，要求轰击粒子反溅（能量在100eV），需要高的偏压对离子施加附加的能量。而磁控溅射（粒子初始能量一般在2～20eV）的离化率低，产生的离子少，偏压施加的附加能量少，不易除去氧化层。沉积的金属过渡层（软层），起到剪切带的作用，使得基体与TiC之间可以保持低应力水平的情况下产生一定的“相对滑动”。但太厚的金属过渡层会使基体软化，耐磨性能降低。 ⑾ 加热恒温时通入Ar 加热恒温时通入Ar目的是为了防止工件升温时放出的O2氧化工件，另外Ar可以置换工件的吸附气体，提高本底真空度。由于作用小，试电时没有看出明显的效果。 ⑿ 镀膜完成后清洗 清洗可能除去膜层的游离C，提高膜层防指印效果。但具体有无此作用还有待验证篇三：个人培训总结 培训总结 虽然说每一天都是纪念日，但是号这一天对我来说将会是永不褪色的记忆，因为这一天我正式成了潍坊弘润包装公司的一名新职员，开始了我人生一段新的旅程。 首先我们进行了一周的入职培训，主要有劳动培训、军事培训、公司企业文化介绍、安全教育、生产设备及工艺流程介绍等。劳动培训的确很辛苦，我们也都咬牙挺过来了，这不仅锻炼了我们吃苦的精神，而且增进了新同事间的感情，增强了彼此之间的了解。还有每天早上的军事训练，纠正了我们在家养成的自由懒散的坏习惯，为将来上班不迟到不早退做好了准备。另外，郭主任还对我们介绍了公司的企业文化，让我们知道了弘润包装公司是一个可以充分发挥我们每一个人的所长和潜能的地方，相信我们自己做出了一次最佳选择。其实，当我们选择了一个公司，从某种意义上说就是选择一种企业文化，所以我们必须要认同它的企业文化和核心理念。一个公司如果没有一个它所坚持的文化和核心理念，必定不能长久地发展下去，必定会在社会发展的大潮中被淘汰。所谓“道不同，不足与谋”，如果连公司的企业文化都不能认同，也就失去了留在公司的必要。公司的李厂长对我们进行了非常重要的安全教育，要我们时刻牢记安全大于一切，没有安全就没有一切，牢记公司“安全第一，预防为主”的方针，对待安全问题要小心、小心再小心，杜绝一切安全隐患，防患于未然。车间王主任对我们讲解了公司的几台主要生产设备，主要是真空镀膜机和复卷分切机，让我们得到了初步的了解，为以后进入车间做好了理论知识的储备。营销部的潘经理对公司的业务进行了介绍，使我们了解了公司主要产品有镀铝PET、CPP、PE薄膜，来料加工镀铝镭射彩虹膜、玻璃纸等系列产品，可加工生产各类镀铝薄膜及相关产品万余吨，产品销往世界各地。所有这些都为我们能成为公司一名合格的职员打下了坚实的基础。 集训完后我被分配到了车间跟随段师傅进行复卷分切机的学习，通过最初的观看到师傅仔细讲解，最后再自己动手操作，让我再次体会到了学习的乐趣。了解了复卷分切机的组成结构、操作方法及注意事项等，关键是对产品质量的把握，目前自己主要掌握了溅射点、镀空线、平行线、划伤这些明显的质量缺陷，对张力的判断还有一定差距，相信随着以后的不断学习和经验累积，这个问题一定会得到解决。 通过这几天的学习，在我的大脑里对日后的工作有了个大概的框架和思路，对以后顺利开展工作有很大的帮助，也想通过自己努力工作，能够在公司有一个好的发展前途，能够找到最适合自己的职位，但是有很多具体的工作方法以及领导与前辈们的经验还需要自己在实际工作中慢慢学习体会。 在酸甜苦乐的培训生活中，无论是师傅的指导还是公司老员工的教诲，都让我看到了一种团队精神和力量。所有学员积极参与，无论是在平时训练和各自的工作岗位中，新职员都积极参加，努力的融入团队，并且很好的扮演好自己的角色，这让我体会到个人与团队的关系，没有团队，就没有个人角色的成功，只有更好的融入团队，承担责任，敢于担当，才能实现个人与团队的双赢。 二十天的时间，这个过程让我体会很深、感触很深的是，我的内心发生了变化。人没有高低贵贱，只有转变观念，端正心态，以努力换取肯定，用实力赢得尊重。学历不等于能力，没有低素质的员工，只有高标准的管理。做我所学，学我所做，树立正确的人生观，价值观是立身的本质，成才的导向。只有对未来一切具有强烈的责任感，以各种方式进行学习，提高自身修养。铭记真诚、用于承担、懂得感恩、回报社会、塑造真、善、责、爱，的世界观和人生观。只有正确的人生观，世界观是不够的，只有加上吃苦耐劳的精神和心态，更加更加的努力，付出更多，才能正真的实现目标，才能为团队，为公司做出更多的贡献。 作为一名刚进入职场的新人，我有以下几点感悟，以供大家共勉：第一，我深刻感觉到自己实践能力的不足和专业知识欠缺。在校园里我积累了一些专业和理论知识，但在实际的工作中，还有很多经验、职业素养和习惯，需要我去进一步学习和感悟。这就需要我在将来的工作中要谦虚勤奋，吸收优秀的经验，不断丰富跟自己工作密切相关的知识。第二，是如何发挥自己的价值，为我院贡献力量。我想，能够进入武汉院的员工，都是在校比较优秀的学生，都具有良好的知识背景、严格的纪律性和坚强的战斗力。如何将我们的活力和知识转化为现实和先进的生产力，如何为我院增添新的荣誉和价值，是我们应该深刻考虑的问题。第三，就是如何适应心理的转变过程。从学生到社会人，角色的转变是巨大的，我们将会面临来自工作和生活新的压力。如何适应新环境，抵抗压力？要求我们要勇于应对新的挑战，更好的提升自我，从严要求自己，努力为将来的发展打造更为广阔的天空。 培训伊始，我们这个由新人组成的班级分成四个小组，每一个小组就是一个团队，有自己的团队名称、队徽，比如我所在的“筑煤”组，我们都是立志于祖国的煤炭事业，立志于我们武汉院的更大发展。这样的方式极大的激励了每一位组员的团队意识，在培训的日子里，每一位组员都能为团队作出自己的贡献而出谋划策。正因为如此，我们的友谊更加深厚，我们的团队凝聚力更加强大。我公司，弘润包装材料有限公司，是潍坊弘润石化公司的子公司，是中国北方目前最大的真空镀铝膜企业，公司的前身是青州铝箔纸总公司，曾为亚洲最大的真空镀铝膜生产企业，获国家三等发明奖；技术达到国际先进水平。企业参加制定的《真空金属镀层厚度测试方法、电阻法》，已成为国家标准。2001年青州铝箔纸总公司改制，归属潍坊弘润石化公司。 2005年弘润石化公司又投资5000万人民币新建8000平方米新车间一座，新增世界一流德国TOPMET2250型高真空镀膜机1台，德国康甫KAMPF2500型高速复卷分切机1台。形成具有真空镀膜、复卷分切、涂布复合多品种包装材料生产基地。主要产品有镀铝PET、CPP、PE薄膜，来料加工镀铝镭射彩虹膜、玻璃纸等系列产品，可加工生产各类镀铝薄膜及相关产品万余吨。其中真空镀铝薄膜技术获山东省科技进步二等奖。 弘润包装材料有限公司以真空镀铝生产技术为核心，在发展薄膜镀铝的同时，向纸张、织物、介质膜、流延膜、拉伸膜延伸和发展。我们愿意与包装行业同仁互惠双赢、共同发展，用一流的设备、一流的技术、一流的管理、一流的产品、一流的服务，共同开创包装行业的春天。
为期一天的集团公司年新员工入职培训会议在xxx大酒店会议厅举行。通过此次培训，力争使新员工更进一步的了解公司的基本情况，熟悉公司相关工作的业务流程及规章制度，树立正确理念和良好职业道德观，尽快融入公司企业文化，实现角色的转换。正如上午公司安全质管部闵部长说到：“培训就是学习的过程，更是巩固学习、再学习的过程”。 能够进入xxxxx，真的很幸运，我非常珍惜和重视这份工作。结束完分公司级和车间级的入厂教育，根据安排我便来到化肥分公司合三车间4班实习，看到周围同事熟练而繁忙的工作，自己有些不知所措，很想尽快加入其中，可是自己却特别的无知，第一班下来一直处于晕晕的状态。很感激班组同事从前到后耐心的指导和关心，让我对工作慢慢有点概念。集团公司安排的这次培训，让我聆听了公司各位领导的点睛之谈，更是受益匪浅，几十年的经验之谈，“胜读十年书”。感受颇深： 一、过去、现在、将来 昨天的xxxxx，前身xx氮肥厂，1976年开建、1977年建成的3000吨合成氨工程，那时候的xxxxx，底子薄，基础差，是一家县级小氮肥厂。 今天的xxxxx，经过30多年的发展，从一家县级小氮肥厂起家，从众多的小氮肥企业中脱颖而出，到今天，公司各项经济技术指标和综合实力保持国内同行业领先水平，达到了“生产规模、技术装备、管理水平、经济效益”四个国内一流，目前已经拥有百万吨尿素的生产规模，成为中国十大尿素生产经营企业之一，年盈利上亿元的氮肥类绩优上市公司。明天的xxxxx，在“肥”字上求发展、在“农”字上做，将从单一肥，走向复合肥，承接公司又一次产业转型，产品升级。将着力塑造成为“人文的、有自主产权的，在中国氮肥行业有重大影响的大型企业集团”，力争实现“双百xxxx”——百年xxxx、百亿xxxx。 二、“以人为本”企业文化 在大学，我们感受的是大学校园文化；在军营，我们感受的是绿色军营文化；到了公司，我们感受到的就说企业文化。其实，当我们选择了一个公司，从某种意义上说就是选择一种企业文化，所以我们必须要认同它的企业文化和核心理念。一个公司如果没有一个它所坚持的文化和核心理念，必定不能长久地发展下去，必定会在社会发展的大潮中被淘汰。所谓“道不同，不足与谋”，如果连公司的企业文化都不能认同，也就失去了留在公司的必要。 上午，公司安全质管部部长闵晓松同志作了关于公司安全、环保方面的主题交流培训，闵部长通过引用实例，图文并茂的讲解，从“认识安全”到“xxxxx安全管理”为切入口，着力诠释“以人为本”的xxxxx企业文化理念，使安全、环保理念深入全体员工，“要我安全”到“我要安全”的意识转变，公司贯彻“安全第一、预防为主、全员动手、综合治理、改善环境、保护健康、科学管理、持续发展”，执行管理体制，公司长期致力于追求安全、环境、健康与经济的协调发展，发展循环经济，开展清洁生产，确保安全环保。 下午，公司党委副书记、工会陈主席作了关于企业文化的精彩演讲，陈主席从“什么是文化”、“什么是企业文化”、“什么是xxxx企业文化”、“什么是有文化的xxxx人”四个方面诠释公司的企业文化。公司企业文化理念的“一本四基”——以人为本、与人为善、诚信勤勉、共谋发展。听了陈主席得演讲，使我备受鼓舞，陈主席结合公司企业文化理念以及自身发展经历，总结交流“海尔文化”、“同仁堂文化”，对我们新入职员工上了生动的一课，鼓励我们新进员工要“有志、有识、有为”，“立德、立行，先立志”。 作为xxxxx的新进员工，虽然进入公司只有不到一个月时间，但是我深深的感受到公司良好的企业文化氛围。 三、扬起风帆，从这里启航 面对与学校完全不同的环境，面对完全陌生的镀膜领域，面对错综复杂的社会，很担心自己一时无法顺利走上自己的工作，怕自己做不好，畏首畏尾。但通过这次培训，我发现公司对每一位新人都是鼓励和激励的，犯错是难免的，我们不能因为会犯错而退缩，勇于尝试，不断改进。做事得敢想敢做，要充分发挥自己的思维和能力。 踏出校园，走向了更广阔的人生舞台，是诠释人生的开始，满怀激情，勇往直前。通过今天的培训，使我更坚信了自己的信念，自己当初的选择是正确的。在这里，在xxxxx，看到了希望，看到了宽广的人生舞台。正如公司宣传信息部蒋青主任所讲到的，xxxxx已经为我们将舞台搭建好，就看我们怎么在台上起舞！篇四：镀膜玻璃学习 1、热反射镀膜玻璃 （1）什么是可见光透过率、反射率？ 在可见光谱范围（380纳米至780纳米）内，透过玻璃光强度的百分比为可见光透过率，而被玻璃反射光强度的百分比为可见光反射率。 （2）什么是太阳能透过率、反射率？ 在太阳能光谱范围（300纳米至2500纳米）内，紫外线、可见光和红外光透过玻璃的百分比为太阳能透过率，而紫外光、可见光和红外光被玻璃反射的百分比为太阳能反射率。 （3）什么是ASHRAE标准？ ASHRAE是英文American Society of Heating，Refrigerating and Air-conditioning Engineers的缩写，即美国采暖制冷空调工程师协会。 （4）什么是U值？ ASHRAE标准条件下，由于玻璃的热传递和室内外的温差，所形成的空气到空气的传热量，U值越低，透过玻璃的传热量越低。公制单位为W/m2K（瓦每平方米每开氏温度）。 （5）什么是冬季U值条件、夏季U值条件？ 冬季U值的条件：室外空气温度为－18℃（0℉），室内空气温度为21℃（70℉），室外空气流速为24Km/h（6.7m/S、15mph），室内空气自然对流，阳光强度为0 W/m2（无阳光）（夜间） 夏季U值的条件：室外空气温度为32℃（90℉），室内空气温度为24℃（75℉），室外空气流速为12Km/h（3.4m/S、7.5mph），室内空气自然对流，阳光强度为783W/m2（白天）。 （6）什么是相对热增益？ 即太阳能透过玻璃的瞬间总增热，其中包括阳光辐射增热（遮阳系数Sc）和传导增热（传热系数U值），相对增热值越低，性能越好。按照ASHRAE标准，在夏季白天，阳光强度为630W/m2，室内外温差为8℃，则相对增热RHG＝8*U夏＋630*Sc（W/m2）。 （7）什么是热应力破裂？ 热应力破裂的产生来自于玻璃不同部位的温度不均匀。镀膜玻璃暴露在阳光直照下，主要吸收阳光的红外光和部分可见光，在玻璃本体内转换为热量，使玻璃本体产生热膨胀，而处于铝框结构内部玻璃部分却不能受到相同的太阳辐射，因此导致玻璃本体整体受热不均匀，内部热应力形成，玻璃中区的热膨胀使玻璃边区产生张应力，此张应力超过边区抗张强度，就会导致玻璃破裂。玻璃由于热应力而破裂的现象是玻璃的边缘破裂口整齐，且与玻璃边缘成直角，裂口数量少，玻璃中区的裂痕为弧形而非直线。 （8）影响热应力的价格方面是什么？ 建筑物朝向、气候条件、玻璃尺寸和形状、暖通设施位置、窗框系统、室内外遮蔽和玻璃本体吸收。 （9）什么是热反射玻璃？ 热反射玻璃就是通常所说的镀膜玻璃，就是在浮法玻璃表面镀上金属膜及金属氧化物或氮化物薄膜，使玻璃的遮阳系数Sc从0.99（6mm透明玻璃）降低到0.2～0.6形成的。 （10）热反射玻璃的特性是什么？ 减弱紫外线透过、多种反射色调、理想的可见光透过率和反射率、高红外热射线反射率、低太阳能获得率、理想的遮阳系数。 （11）单向透明玻璃的应用？ 主要应用于隐蔽性观察窗，采用真空磁控溅射设备在玻璃表面镀膜。膜面必须朝着光源明亮的被观察室，必须创造适当的光照度比，以达到理想的效果。 （12）什么是风荷载能力？ 即承受均匀风压的能力，与玻璃的种类、尺寸和厚度等因素有关。 （13）建筑基片（玻璃原片）的种类主要有多少？ 建筑浮法玻璃基片的常见品种有白玻、M绿、H绿、F绿、灰玻、茶玻等。 （14）玻璃基片如何在膜代号中反映？ 由膜代号中第一位数字表示，1表示白玻，2表示绿玻，3表示灰玻，4表示茶玻，5表示蓝玻，6表示蓝绿玻。例如CCS108中的“1”表示白玻基片，CC208中的“2”表示绿玻基片。 （15）镀膜玻璃按颜色划分有几类？ 蓝灰、银灰、灰色、蓝色、绿色、蓝绿、亮绿、茶色、金色、香槟色等。 2、LOW－E玻璃 （1）建筑玻璃主要有哪几种符合产品？ 主要有钢化、半钢化、镀膜、中空、夹层、彩釉、弯钢化，以及他们不同的组合。例如钢化玻璃镀膜中空玻璃、镀膜夹层中空玻璃等。（2）什么是遮阳系数Sc？反映的是哪部分传热？ 遮阳系数Sc：在相同的条件下，透过玻璃的太阳辐射能与透过3mm普通透明玻璃的太阳辐射能之比。透过3mm普通透明玻璃的太阳辐射能为630W/m2。 遮阳系数Sc＝太阳直接辐射能÷630W/m2 太阳直接辐射能＝630 W/m2*遮阳系数Sc。 遮阳系数Sc反映的是太阳直接辐射透过玻璃的传热。 （3）遮阳系数Sc高好，还是低好？ 不同的遮阳系数的玻璃适合于不同气候的地区。 遮阳系数高，透过玻璃进入室内的太阳能辐射多，从而降低冬季的取暖费用，这种玻璃多用于冬季漫长的北方地区使用。 遮阳系数低，对太阳能辐射阻挡效果好，减少进入室内的太阳能辐射，从而降低夏季的空调费用，这种玻璃多用于夏季漫长的南方地区使用。 （4）什么是U值？它反映的是哪部分传热？ U值反映的是因对流传导传递而透过玻璃的热量，其中包括玻璃吸收热能后再向外辐射的传递。因此，玻璃的辐射率E低，U值相应地就低。 对流传导热能＝U值*（T室外－T室内） T室外、T室内分别是室外、室内温度。 （5）透过玻璃地总热量由几部分构成，如何表示？ 由两部分构成：太阳直接辐射传热、对流传导传热。 用公式表示为：Q总＝630*Sc＋U*（T室外－T室内） （6）太阳辐射由哪几部分构成？ 由三部分构成： 紫外线辐射，波长范围0.30～0.38微米。 可见光，波长范围0.38～0.78微米。 近红外线辐射，波长范围0.78～2.50微米。 （7）远红外辐射是否直接来自太阳？远红外辐射是间接来自太阳能的，这部分能量就是热量，是由太阳照射到物体上被物体吸收后再辐射出来的，其波长范围分布在5～50微米。夏季，室外道路、建筑物在吸收阳光辐射后发出的远红外辐射热，是来自室外的主要热源之一。 （8）室内有远红外辐射来自于暖气、家电、被阳光照射后的家具、火炉及人体，是冬季来自室内的主要热源之一。 （9）远红外辐射是如何透过玻璃的？ 远红外辐射不能直接透过普通的玻璃，只能被玻璃反射或吸收，玻璃吸收这部分热量以后温度会升高，并通过与空气对流传导和向两侧再发生热辐射而损失这部分热量，因此这部分热量最终还是透过了玻璃，只不过是以先吸收再辐射的方式透过玻璃。 （10）如何区分远红外辐射、近红外辐射? 近红外辐射直接来在于太阳，其热感不明显，但被物体吸收后就转换为热量。 远红外辐射，作为太阳能转换的结果或人为生产的结果，本身就是热量。夏季观察被阳光辐射的道路，可看到热辐射波从地面升起（即太阳能正被转化成热辐射）。冬季靠近暖气旁，可直接感受到热辐射。 （11）什么是LOW-E玻璃？ LOW-E玻璃就是低辐射玻璃，它是在玻璃表面上镀膜，使玻璃的表面的辐射率E由0.84降低到0.15以下形成的。 （12）LOW-E玻璃具有哪些特点？ ★红外反射率高，可直接反射远红外热辐射。 ★表面辐射率低，吸收外来能量的能力小，从而再辐射出的热能少。 ★遮阳系数Sc范围广，可根据需要控制太阳能的透过量，以适应不同地区的需要。 （13）为什么LOW-E膜层可以发射热量？ LOW-E膜层中镀有银层，银可将98％以上的远红外辐射反射出去，从而像镜子反射光线一样反射热量。同时，LOW-E玻璃的遮阳系数Sc可从0.2至0.7，从而可根据需要调控进入室内的太阳直接辐射能。 （14）LOE-E玻璃与热反射玻璃在功能上的区别？ 热反射玻璃是通过降低的遮阳系数，限制太阳直接辐射能透过玻璃进入室内，从而达到降低空调费用、节省能源的目的。LOW-E玻璃是通过降低玻璃的U值，限制远红外辐射能透过玻璃，从而达到降低对流传导热能透过玻璃的目的。同时，LOW-E玻璃的遮阳系数Sc调整范围比较大，可对进入室内的太阳直接辐射有效地控制。 （15）成熟的镀膜玻璃工艺主要有哪几种？ 主要有两种：在线镀膜、真空磁控溅射镀膜（离线镀膜） 在线镀膜玻璃是在浮法玻璃生产线上制造的，这种玻璃的品种单一、热反射性能差、制造成本低，其唯一的优点是可热弯加工。 真空磁控溅射工艺制造的镀膜玻璃，品种丰富多彩、热反射性能良好、节能特性明显，但不可热弯加工。 （16）LOW-E玻璃是否可以单片使用？ 真空磁控溅射工艺制造的LOW-E玻璃，一般不可单片使用（可异地加工的LOW-E除外），需要合成中空玻璃或夹层玻璃使用。但它的辐射率E远低于0.15，可低于0.1以下。 在线镀膜工艺制造的LOW-E玻璃，可单片使用。但它的辐射率E＝0.28，严格来说，已经不能称为LOW-E玻璃，（辐射率E小于0.15的物体成为低辐射物体），而且品质和使用性能远不如离线镀膜玻璃。 LOW-E玻璃在中空玻璃里所形成的类似密封空间里最有效，因为这种密封空间消除了LOW-E面上的空气流动，从而使LOW-E玻璃更好的发挥作用。 （17）LOW-E玻璃的性能是否一样？ LOW-E因品种不同，其性能也不同。 （18）LOW-E玻璃有几个系列？ 主要分为高透型和遮阳型两大系列，其中双银LOW-E属于遮阳型LOW-E。 （19）什么是双银LOW-E玻璃，有何特点？ 双银LOW-E玻璃是高级LOW-E玻璃，它强调玻璃对太阳辐射的遮蔽效果，同时具有较高的可见光透光率和较低的太阳能透过率的双重优点。 在可见光透光率相同的情况下，它比普通LOW-E玻璃具有更低的遮阳系数Sc，即它将最大限度的将太阳光过滤成为冷光源，为追求外观通透性的设计提供了节能性的保障。 （20）哪种LOW-E玻璃适用于北方寒冷地区？ 高透型LOW-E玻璃适用于北方寒冷地区，高透型LOW-E玻璃具有以下特征：篇五：薄膜总结 绪论 薄膜的特性 1. 薄膜所用原料少，容易大面积化，而且可以
曲面加工。2. 厚度小、比表面积大，能产生许多新效应。 3. 可以获得体态下不存在的非平衡和非化学计量
比 结构。 4. 容易实现多层膜，多功能薄膜。 5. 薄膜和基片的粘附性， 一般由范德瓦耳斯力、
静电力、表面能（浸润）和表面互扩散决定。 6.薄膜有内应力，内应力分本征应力和非本征应力。 7. 通常存在大量的缺陷 第一章
真空技术基础 1. 什么是真空？ 气体较稀薄的空间。 2.真空的基本特点
a 气体分子的平均自由程大 b 单位面积上分子与固体表面碰撞的频率小 c
气体分子密度低 d
剩余气体对沉积膜的掺杂 (
想要得到高纯度的薄膜，就必须尽量在较高真空度的环境下，或是在不会与薄膜材料产生反应的氩气等的惰性气体中进行。)
改变反应进程 压强降低，降低了反应温度 3. 真空的应用 1）产生压力差以完成某些过程 2）隔热 3）产生干净表面，表面过程，可控薄膜沉积 4）提高分子运动平均自由程 4. 真空度的单位帕斯卡（Pascal）：Pa
1Pa = 1N/m2 旧的单位： Torr mmHgatmbarPsi Kg/cm2 1标准大气压(1atm)≈1.013×105Pa(帕)
1Torr≈1 / 760atm≈1mmHg 1Torr≈133Pa≈102 Pa 1bar = 0.1MPa
1Psi = 1磅/ 平方英寸 真空区域划分为：粗真空、低真空、高真空、
超高真空和极高真空 1?013?10~1?333?10Pa粗真空 低真空
1?333?103~1?333?10?1Pa高真空1?333?10超高真空 极高真空 ?1 53 ~1?333?10?6Pa 1?333?10?6~1?333?10?10Pa ?1?333?10?10Pa 吸附：固体表面对气体分子的捕获。
分物理吸附和化学吸附。 真空中的吸附与脱附决定于气体压强、固体与气体的化学活性、固体温度、固体表面平整度、清洁度等 二、真空的获得往往用 机械泵+ 扩散泵，获得高真空（有油），用吸附泵+离子泵+钛升华泵获得超高真空（无油），也可用有油、无油复合系统。 旋片式机械泵工作范围及特点：
Atmosphere to 10-3 torr耐用，便宜 由于泵的定子、转子都浸入油中，每周期都有油进入容器，有污染。要求机械泵油有低的饱和蒸汽压、一定润滑性、黏度和高稳定性。 罗茨泵(Roots pump特点
两个转子独立高速旋转无油，抽速高 油扩散泵优点:耐用、 成本低，抽速快 无震动和声音缺点： 油污染 涡轮分子泵特点：1. 气体分子被高速转动的涡 轮片撞击，向出口运动 2.多级速度：30,000-60,000 rpm.转子的切向速度与分子运动速率相当
3. Atmosphere to 10-10 Torr
4. 启动和关闭很快
5. 无油，有电磁污染 6. 噪声大、有振动、比较昂贵 复合分子泵 复合分子泵由涡轮分子泵和牵引分子泵（阻压泵）复合而成 低温泵特点： 1.利用20K以下的低温表面来凝聚气体分子实现抽气，是目前最高极限真空的抽气泵； 2.可对各种气体捕集，凝结在冷凝板上，所以工作一段时间后必须对冷凝板加热“再生”； 3. “再生”必须彻底； 4. 加热“再生”温度 &200 °C
烘烤除去吸附的气体 5. 无油污染； 6. 制冷机式低温泵运作成本低，较常采用。 离子泵特点： 1.
极板间加高压 (~5 kV) 2.电子螺旋运动 (longer path- length). 3. 气体分子被电子离化，向阴极运动. 4. 离子注入阴极(Ti，Ta)，溅射阴极材料. 5. 溅射出的阴极材料与气体反 应，沉积在角落中或阳极上. 6. 10-4 Torr to 10-11 Torr 离子泵优点： 干净，无油污染无运动部分，无振动，无噪音
低功耗，使用时间长 缺点 ：对惰性气体效率低 每隔几年需要对阴极材料进行再生 钛升华泵特点： 1. 加热Ti丝使其蒸发到冷壁.2. Ti原子与气体反应.3. 工作范围 10-8-10-11 Torr4. 便宜，可靠 5. 需要再生 三、真空测量 1.
低真空( 1atm ~10-4 Torr)热偶真空计 皮拉尼（Pirani）真空计（电阻真空计）膜片式真空计（电容式真空计） 2.
电离真空计(Ion Gauge)
质谱仪真空计- RGA(Residual Gas Analyzer) 高真空测量：电离规(Ion Gauge 电离规在低真空下使用会使钨灯丝氧化，降低寿命，甚至烧断；当电离规管暴露于大气后，内部及灯丝、电极会吸附气体，再次使用时要作“除气”操作。 四、真空系统 1.真空材料必须满足 力学性能热学性能气体负载 真空材料应考虑的问题除气速率产生气体虚漏机械稳定性温度稳定性
化学惰性 可焊接性 第二章 薄膜的化学制备方法（1） 化学气相沉积(CVD) 1. 化学气相沉积: 沉积过程中发生化学反应，薄膜与原料的化合状态不一样。
2. 代表性技术：低压CVD(LPCVD), 常压CVD APCVD, 等离子体增强CVD (PECVD);金属有机源CVD(MOCVD) 3. 技术特点：薄膜质量高，致密，可控性好， 薄膜的热生长 氧化物的生长
除Au以外的所有金属都可以与氧发生氧化反应，并在其表面生长氧化物 氮化物的生长 1.
反应的热力学判据自由能变化： ΔG?(cΔGc?dΔGd)?(aΔGa?bΔGb) ΔG & 0 ，即反应可以自发进行；反之ΔG & 0 ，反应不能进行。 1、反应要进行，必须ΔG & 0； 2、要避免异相成核过快及同相成核，必须ΔG尽可能接近0 温度对反应速率的影响 反应温度每升高10℃，反应速率r大约增加2-4倍。这是一个近似的经验规则。 CVD的特点优点： 1. 既可制作金属薄膜，又可制作多组分合金薄膜； 2. 成膜速率高于LPE（低压外延） 和 MBE； 3. CVD反应可在常压或低真空进行，绕射性能好； 4. 薄膜纯度高、致密性好、残余应力小、结晶良好； 5. 薄膜生长温度低于材料的熔点； 6. 薄膜表面平滑； 缺点 1.参与沉积的反应源和反应后的气体不少都易燃、易爆或有毒， 需环保措施，有时还有防腐蚀要求； 2. 反应温度还是比较高，尽管低于物质的熔点；工件温度高于PVD技术，应用中受到一定限制； 3. 对基片进行局部表面镀膜时很困难，不如PVD方便 （三） 一般CVD 反应 1. 热分解反应（吸热反应）1）氢化物分解制备Si膜
常用 SiH4????? Si + 2H2? 700-1000℃ 2Al(OC3H7)3???? Al2O3 + 6C3H6 + 3H2O?（2）金属有机化合物分解制备Al2O3薄膜 常用 630?675℃ 420℃ Ga(CH3)3+ AsH3????? GaAs + 3CH4?常用 3）氢化物和金属有机化合物分解合成制备GaAs 2. 化学合成反应 1) 最常用的是氢气还原卤化物来制备各种金属或半导体薄膜； (2)
选用合适的氢化物、卤化物或金属有机化合物来制备各种介质薄膜。 化学合成反应法比热分解法的应用范围更加广泛。 可以制备单晶、多晶和非晶薄膜。容易进行掺杂。 （五） CVD系统 卧式反应器特点：常压操作；装、卸料方便。但是薄膜的均匀性差。 对系统尚有冷壁和热壁的区别 热壁CVD优点： 1.操作简单； 2. 可容纳几个基体； 3. 可在一定的压力和温度范围内操作； 4. 基体相对于气流的方向可以不同； 主要缺点： 1. 沉积不仅发生在基体上也发生在反应器壁上； 2. 膜层会从器壁上脱落并污染基体； 3. 被膜层覆盖的器壁表面积分数在实验期间以及从一个实验到另一个实验会发生变化，导致沉积条件的重复性问题； 2.
封闭式（闭管沉积系统）CVD 闭管法的优点：污染的机会少，不必连续抽气保持反应器内的真空，可以沉积蒸气压高的物质。 闭管法的缺点：材料生长速率慢，不适合大批量生长，一次性反应器，生长成本高；管内压力检测困难等 （六）常压CVD（APCVD） 特点：低温、常压、生长速率大、沉积膜疏松 （七）低压化学气相沉积（LPCVD） 低压下气体扩散系数增大，使气态反应物和副产物的质量传输速率加快，形成薄膜的反应速率增加。 优点： （1）低气压下气体分子的平均自由程大，反应装置内可以快速达到浓度均一，消除了因气相浓度梯度带来的薄膜不均匀性。 （2）薄膜质量高：薄膜台阶覆盖良好；结构完整性好；针孔较少。（3）沉积过程主要由表面反应速率控制，对温度变化极为敏感，所以，LPCVD技术主要控制温度变量。LPCVD工艺重复性优于APCVD。 （4）卧式LPCVD装片密度高，生产成本低 （八）等离子增强化学气相沉积（PECVD） 等离子体在CVD中的作用
1. 将反应物气体分子激活成活性离子，降低反应温度； 2. 加速反应物在表面的扩散作用，提高成膜速率； 3. 对基片和薄膜具有溅射清洗作用，溅射掉结合不牢 的 粒子，提高了薄膜和基片的附着力； 4.由于原子、分子、离子和电子相互碰撞，使形成薄膜 的厚度均匀。 PECVD的优点 1.低温成膜（300-350℃），对基片影响小，避免了高
温带来的膜层晶粒粗大及膜层和基片间形成脆性相； 2.低压下形成薄膜，膜厚及成分较均匀、针孔少、膜层致密、内应力小，不易产生裂纹； 3.扩大了CVD应用范围，特别是在不同基片上制备金属薄膜、非晶态无机薄膜、有机聚合物薄膜等； 4.薄膜的附着力大于普通CVD。 (九) MOCVD方法 优点：
1. 对镀膜成分、晶相等品质容易控制； 2.可在形状复杂的衬底上形成均匀镀膜； 3.结构密致，附着力良好。 (十) 光CVD 优点是沉积在低温下进行，沉积速率快、可生长亚稳相的形成突变结，而且薄膜与基片的结合良好。 第三章 薄膜的物理制备方法（1）蒸发 真空蒸发的特点与蒸发过程 采用掩模可以获得清晰的图形； 薄膜生长机理比较单纯。
优点： 设备比较简单、操作容易； 薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制； 成膜速度快、效率高，缺点：不容易获得结晶结构的薄膜，薄膜附着力较小，工艺重复性差。 蒸发度膜的三个基本过程1加热蒸发2 气相原子或分子的输运（源-基距）3 蒸发原子或分子在基片表面的淀积 蒸发温度
物质在饱和蒸气压为10-2 Torr时的温度，称为该物质的蒸发温度。 在蒸发温度以上进行蒸发时，蒸发源温度的微小变化可以引起蒸发速率发生很大变化。
均匀膜层厚度是薄膜技术中的关键问题。取决于如下因素： 相关热词搜索：
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