用哪些磁控溅射工艺艺可以制备掺10%Cr的T...

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2011-10-20 10:16 标签： 溅射工艺
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磁控溅射制备氮化铜薄膜及其掺杂的研究.pdf54页
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南京邮电大学学位论文原创性声明 本人声明所呈交的学位论文是我个人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。
尽我所知，除了文中特别加以标注和致谢的地方外，论文中不包含其他人已经发表或撰写过
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与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的说明并表示了谢意。 本人学位论文及涉及相关资料若有不实，愿意承担一切相关的法律责任。 研究生签名：_____________ 日期：____________ 南京邮电大学学位论文使用授权声明 本人授权南京邮电大学可以保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子文
档；允许论文被查阅和借阅；可以将学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索；
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论文的内容相一致。论文的公布（包括刊登）授权南京邮电大学研究生院（筹）办理。 涉密学位论文在解密后适用本授权书。 研究生签名：____________ 导师签名：____________ 日期：_____________ II
南京邮电大学
硕士学位论文摘要 学 科、专 业： 理学 光学 研 究 方 向： 光电子功能材料、性质和器件 作
者： 2009 级研究生 白秋飞 指导教师： 李兴鳌 题 目：磁控溅射制备氮化铜薄膜及其掺杂研究 英文题目： Preparation and Characterization of Doped Cu N Thin Films by 3 Magnetron Sputtering 主 题 词： 氮化铜薄膜；反应磁控溅射；氮气流量；Ni 掺杂；晶体结 构；表面形貌 Keywords: Copp Reactive
-gas 2 Ni- C Surface morphology III
南京邮电大学硕士研究
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溅射功率对直流磁控溅射Ti膜结构的影响
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&&溅​射​功​率​对​直​流​磁​控​溅​射​T​i​膜​结​构​的​影​响
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